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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

參   考   價: 150955

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號HR-70N

品       牌冠亞制冷

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-10-25 10:17:30瀏覽次數:242次

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產地類別 國產 價格區間 10萬-20萬
應用領域 化工,生物產業,石油,制藥,綜合
【無錫冠亞】單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置 ,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 


  

  

  反應釜溫度控制系統通過準確測量反應釜內的溫度,并根據預設的工藝參數自動調節加熱或冷卻設備,以維持反應過程在溫度范圍內進行。單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

  一、反應釜溫度控制系統在化工行業的應用

  1、精細化學品合成:在精細化學品如染料、醫藥中間體、藥等的生產過程中,溫度是控制反應速率、選擇性和產品純度的關鍵因素。反應釜溫度控制系統能夠準確控制溫度波動,確保反應按預期路徑進行,提高產品質量。

  2、高分子材料聚合:聚合反應對溫度條件敏感,過高或過低的溫度都可能導致聚合速率變化、分子量分布不均或產生副產物。反應釜溫度控制系統能夠實時監控并調整溫度,優化聚合條件,提升產品性能。

  3、催化劑活化與再生:在催化反應中,催化劑的活性往往與溫度密切相關。反應釜溫度控制系統通過準確控制溫度,促進催化劑的活化,同時在必要時進行溫度調節以實現催化劑的再生,延長催化劑使用壽命,降低生產成本。

  4、化學品處理:危險化學品的生產,反應釜溫度控制系統的穩定運行是確保安全生產的重要前提。它能有效防止因溫度失控引發的安全事故,保障人員和設備安全。單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置

  二、反應釜溫度控制系統優勢分析

  1、提高生產效率:準確的溫度控制縮短了反應時間,提高了生產效率,同時減少了因溫度波動導致的返工和廢品率。

  2、優化產品質量:通過準確控制反應溫度,能夠穩定產品質量,減少產品批次間的差異,滿足市場需求。

  3、增強安全性:實時監測和快速響應機制有效預防了因溫度異常引發的安全事故,提升了生產環境的安全性。

反應釜溫度控制系統在化工行業中的應用不僅是提升生產效率和產品質量的手段,更是保障生產安全、促進可持續發展的基石。




單流體加熱制冷系統 TCU高低溫循環裝置



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