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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第20年

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當(dāng)前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>制冷加熱一體機(jī)>> SUNDI-235藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器

藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器

參   考   價(jià): 154040

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)SUNDI-235

品       牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時(shí)間:2024-03-13 13:13:38瀏覽次數(shù):484次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-20萬
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合
【無錫冠亞】藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。


無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號(hào)

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認(rèn)PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機(jī)

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī)

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護(hù)

具有自我診斷功能;冷凍機(jī)過載保護(hù);高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙蜏刈詣?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng))cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  小規(guī)模反應(yīng)罐純化制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室、科研機(jī)構(gòu)以及工業(yè)生產(chǎn)中的化學(xué)反應(yīng)、物質(zhì)純化和工藝過程控制等領(lǐng)域。為了確保系統(tǒng)的正常運(yùn)行和延長使用壽命,其放置環(huán)境的選擇也是重要的。

  一、制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)的放置環(huán)境要求

  1、溫度與濕度

  小規(guī)模反應(yīng)罐純化制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)應(yīng)放置在溫度適宜、濕度較低的環(huán)境中。過高的溫度可能導(dǎo)致系統(tǒng)內(nèi)部元件老化加速,降低性能;而濕度過高則可能導(dǎo)致設(shè)備內(nèi)部結(jié)露,引發(fā)短路和腐蝕等問題。

  2、通風(fēng)與防塵

  為確保系統(tǒng)散熱良好,避免灰塵積累影響性能,制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點(diǎn)應(yīng)具備良好的通風(fēng)條件。同時(shí),可在設(shè)備周圍設(shè)置防塵罩或安裝空氣凈化設(shè)備,以降低灰塵對(duì)系統(tǒng)的影響。

  3、震動(dòng)與噪聲

  系統(tǒng)應(yīng)避免放置在震動(dòng)較大的環(huán)境中,以防內(nèi)部元件松動(dòng)或損壞。此外,制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)運(yùn)行過程中產(chǎn)生的噪聲可能會(huì)對(duì)周圍人員造成干擾,因此應(yīng)將設(shè)備放置在遠(yuǎn)離噪聲源的位置。

  4、電源與接地

  為確保系統(tǒng)的穩(wěn)定運(yùn)行,應(yīng)提供穩(wěn)定的電源供應(yīng),并確保設(shè)備接地良好。制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)接地不僅可以防止電氣故障導(dǎo)致的安全事故,還能有效降低電磁干擾對(duì)系統(tǒng)性能的影響。

  5、空間與布局

  制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點(diǎn)應(yīng)留有足夠的空間,以便日后維護(hù)和升級(jí)。同時(shí),設(shè)備的布局應(yīng)合理,方便操作人員進(jìn)行操作和維護(hù)。

因此,在選擇制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點(diǎn)時(shí),應(yīng)充分考慮各種因素,確保設(shè)備能夠在良好的環(huán)境中穩(wěn)定運(yùn)行。




藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器

藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器


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