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優(yōu)點(diǎn)

零水溶性

良好的耐化學(xué)性

良好的光譜范圍

高折射率允許設(shè)計(jì)出色的抗反射 (AR) 涂層

高折射率意味著 ATR 應(yīng)用中的穿透深度非常低

高折射率允許非常創(chuàng)新的折射元件光學(xué)設(shè)計(jì)

低成本

可以通過(guò)金剛石車削制造

缺點(diǎn)

自由載流子吸收限制了在高溫下的使用

在不能使用增透膜的應(yīng)用中，高折射率會(huì)限制傳輸

紅外探測(cè)器窗口

ATR元素

單次反射 ATR 顯微鏡

聚光透鏡 - 高折射率允許非常清晰的焦點(diǎn)用于顯微鏡應(yīng)用

成像鏡頭——當(dāng)與 AMTIR 元件結(jié)合形成消色差鏡頭時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)出色的寬帶成像

Ge 已被用作 FT-IR 分束器——這是通過(guò)在分束器的背面和補(bǔ)償器的兩側(cè)使用 BBAR 涂層來(lái)實(shí)現(xiàn)的

光譜范圍

短波極限：5,500 cm -1 (1 mm)
長(zhǎng)波極限：432 cm -1 (1 mm)、574 cm -1 (4 mm)

涂層

Ge 的高折射率允許設(shè)計(jì)透射率大于 98% 的 BBAR 涂層。它還可以進(jìn)行涂層以控制 ATR 應(yīng)用中的穿透深度。

折射率1

具體指標(biāo)上市；通用：4.00 @ 10 um

注1

透射率大于規(guī)定晶體厚度的 50% 的短波長(zhǎng)和長(zhǎng)波長(zhǎng)限制。

HH 李; 鍺和硅的折射率及其波長(zhǎng)和溫度導(dǎo)數(shù)。物理與化學(xué)雜志，參考數(shù)據(jù)，卷。9m (3), p. 561-601.1980.

物理數(shù)據(jù)

熔點(diǎn)：936 °C
密度：5.33 g/cm 3
在 H2O中的溶解度：不溶性
硬度：780 kg/mm 2
外觀：金屬

遠(yuǎn)紅外傳輸 - 1 毫米厚的 Ge 窗口片

遠(yuǎn)紅外傳輸 - 4 毫米厚的 Ge 窗口片

型號(hào)列表

Ge DisksGe :

Disks, XP-BBAR Coated (2–14 micron):

XP-BBAR™（寬帶抗反射）涂層在Ge窗片上的應(yīng)用顯著增加了最寬光譜范圍內(nèi)的紅外線透射。 該涂覆窗片針對(duì)優(yōu)化覆蓋2-14um的光譜區(qū)域。

Ge Disks, XP-NBAR Coated (8–12 micron):

XP-NBAR™（窄帶抗反射）涂層在Ge窗片上的應(yīng)用顯著增加了在有限光譜范圍內(nèi)的紅外透射。 該涂覆窗片針對(duì)優(yōu)化覆蓋8-12um的光譜區(qū)域。