產品簡介
測量法是指光柵尺或編碼器在通電時立即提供位置值并隨時供后續信號處理電子電路讀取。無需移動軸執行參考點回零操作。位置信息由測量基準上的光柵讀取,它由系列式編碼組成。將單獨的增量刻軌信號進行細分生成位置值,并根據接口版本,還生成可選的增量信號。
詳細介紹
敞開式HEIDENHAIN直線光柵尺
增量測量法的磁柵由周期性柵線組成。通 過計算自某點開始的增量數(測量步距 數)獲得位置信息。由于必須用參考 點確定位置值,因此測量基準的光柵尺上 還有一個參考點刻軌。在光柵尺上,由參 考點確定的位置是在一個信號周期分 配的。因此,必須通過掃描參考點建立絕 對基準點或確定上次選擇的原點。
在不理想的情況下,可能需要運動機床 測量范圍的相當大部分。為加快和簡化 “參考點回零”操作,許多海德漢尺帶距 離編碼參考點,這些參考點之間彼此相距 數學算法確定的距離。因此只需運動數毫 米,一旦移過兩個相鄰參考點后,后續電 子電路就能找到參考點位置(見下 表)。距離編碼參考點的光柵尺在型號后 均帶字母“C”(例如LIF 181C)。
敞開式HEIDENHAIN直線光柵尺
光電掃描
海德漢的大多數光柵尺采用光電掃描原 理。光電掃描在工作中無接觸,因此無磨 損。光電掃描可以檢測到非常細小的光 柵,柵線寬度可僅數微米,并能輸出非常 細小的信號周期信號。
測量基準的柵距越小,光電掃描的衍射現 象越嚴重。海德漢直線光柵尺采用兩種掃 描原理:
• 成像掃描原理用于10 µm至200 µm的柵 距。
• 干涉掃描原理用于柵距4 µm甚至更小柵 距的光柵。
成像掃描原理
簡單地說成像掃描原理是用透射光生成信 號:兩個柵距相同或相近的光柵與掃描掩 膜彼此相對運動。掃描掩膜的基體為透明 色,而作為測量基準的光柵材料可為透明 材料也可以為反光材料。
當平行光穿過光柵時,以特定的間隔形成 明暗的光影區。在該處設有柵距相同或相 近的掃描光柵。當兩個光柵相對運動時, 入射光被調制:在狹縫對齊時,光線通 過。如果一個光柵的刻線與另一個光柵的 狹縫對齊,光線無法通過。光電池將這些 光強變化轉化成電信號。
特殊結構的掃描 掩膜將光強調制為近正弦輸出信號。光柵 條紋的柵距越小,掃描掩膜與光柵尺間的 間距越小,公差越嚴。對于成像掃描原理 的光柵尺,10 μm或更大柵距的光柵尺可 滿足實用的安裝公差要求。
LIF 471,LIF 481 安裝簡單的增量式直線光柵尺
• 測量步距達2 nm
• 自帶回零軌和限位開關檢測位置
• 易于安裝,粘結固定
• 直線光柵尺和讀數頭配套使用
• 可提供高真空度版(參見產品信息文檔)