紫外光光化學反應儀,光化學反應儀,光催化光固化試驗箱?
產品簡介
光催化氧化技術是在光化學氧化技術的基礎上發展起來的。光化學氧化技術是在可見光或紫外光作用下使有機污染物氧化降解的反應過程。自然環境中的部分近紫外光(290——400nm)極易被有機污染物吸收，在有活性物質存在時即發生強烈的光化學反應，從而使有機物降解。但由于反應條件所限，光化學氧化降解往往不夠*，易產生多種芳香族有機中間體，成為光化學氧化需要克服的問題。
自1976年Carey等首先采用TiO2光催化降解聯苯和氯代聯苯以來，光催化氧化技術的研究熱點就轉化到了以TiO2為催化劑的光催化氧化降解有機污染物這一方向上來。
由于光催化氧化技術設備結構簡單、反應條件溫和、操作條件容易控制、氧化能力強、無二次污染，加之TiO2化學穩定性高、無毒、價廉，故TiO2光催化氧化技術是一項具有廣泛應用前景的新型水處理技術。智能多試管光化學反應儀生產廠家GY-DSGHX

產品說明
上海歸永GY-DSGHX-KW多試管控溫光化學反應儀主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數，測定量子產率等功能，廣泛應用化學合成、環境保護以及生命科學等研究領域。

多試管控溫光化學技術參數&型號選擇
光化學反應儀一體式主機：控制部分（控制主機+光源控制器）+暗箱
光源功率可連續調節大小。
集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
汞燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。
氙燈功率調節范圍：0~1000W可連續調節。
金鹵燈功率調節范圍：0~500W可連續調節。

光化學反應儀反應裝置：小容量磁力攪拌裝置
石英試管規格：30ml、50ml（或定做）。
可同時處理8個樣品（或定做）。
八位磁力攪拌裝置可同步調節8個樣品的攪拌速度。

光化學反應儀低溫恒溫槽
冷卻水循環裝置制冷量：＞1000W
控溫范圍：-5°C到100°C
冷卻水循環裝置設有腳輪和底部排液閥。智能多試管光化學反應儀生產廠家GY-DSGHX
上海歸永GY-DSGHX-KW 多試管控溫光化學反應儀 主要針對多樣品，容量不大，且樣品需在一定的溫度下的實驗 （反應瓶8只）按反應瓶（石英試管）大小 可分：8*30ML、8*50ML（標準）其余規格可定做 

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 幾年出現的采用光子探測器(CCD)和計算機控制的新型光譜分析儀器，它集信息采集，處理，存儲諸功能于一體。由于OMA不再使用感光乳膠，避免和省去了暗室處理以及之后的一系列繁瑣處理，測量工作，使傳統的光譜技術發生了根本的改變，大大改善了工作條件，提高了工作效率;使用OMA分析光譜，測量準確迅速，方便，且靈敏度高，響應時間快，光譜分辨率高，測量結果可立即從顯示屏上讀出或由打印機，繪圖儀輸出。它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量，分析及研究工作中，特別適應于對微弱信號，瞬變信號的檢測。光譜儀應用很廣，在農業、天文、汽車、生物、化學、鍍膜、色度計量、環境檢測、薄膜工業、食品、印刷、造紙、拉曼光譜、半導體工業、成分檢測、顏色混合及匹配、生物醫學應用、熒光測量、寶石成分檢測、氧濃度傳感器、真空室鍍膜過程監控、薄膜厚度測量、LED測量、發射光譜測量、紫外/可見吸收光譜測量、顏色測量等領域應用廣泛。分光光度計分光光度計就是利用分光光度法對物質進行定量定性分析的儀器。而分光光度法則是通過測定被測物質在特定波長處或一定波長范圍內光的吸收度，對該物質進行定性和定量分析。隨著光度計行業的不斷發展，越來越多的企業和行業運用到了光度計，也有大量的企業進入了光度計并發展。物質對光的選擇性吸收波長，以及相應的吸收系數是該物質的物理常數。當已知某純物質在一定條件下的吸收系數后,可用同樣條件將該供試品配成溶液，測定其吸收度,即可由上式計算出供試品中該物質的含量。在可見光區，除某些物質對光有吸收外，很多物質本身并沒有吸收,但可在一定條件下加入顯色試劑或經過處理使其顯色后再測定,故又稱比色分析。由于顯色時影響呈色深淺的因素較多，且常使用單色光純度較差的儀器，故測定時應用標準品或對照品同時操作。分光光度計已經成為現代分子生物實驗室常規儀器。常用于核酸，蛋白定量以及細菌生長濃度的定量。儀器主要由光源、單色器、樣品室、檢測器、信號處理器和顯示與存儲系統組成。核酸的定量是分光光度計使用頻率的功能。儀器設備的高負荷使用，往往容易發生意外故障，特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧，就不能發揮儀器的正常作用，而帶來工作上的障礙。防止光學儀器生霧提升我們的實驗效率。
目前國內企業設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業模式，儀器設備的管理也應做好計劃，同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養來減低故障的發生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免了搶修工作，保證儀器隨時能投入正常的作用。測繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現象外，往往還有光學零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對光學信器起霧的主要因素，采取防止措施。
光學儀器起霧的原因及危害
霧是指光學零件的拋光面上，呈現出"露水"似的物質，這些物質有的是油質點子構成的，稱為油性霧，有的是由水珠或水與玻璃起化學反應形成堆積物構成的，稱為水性霧：有的光學零件上，兩種霧都有，叫做水油混合霧，一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。
油性霧通常分布在元形光學零件的邊緣，并向中央伸延，有的則沿擦拭痕跡分布，油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面，或是由于油脂的擴散，揮發在玻璃表面凝結而造成的。
比如擦拭光學零件所用的輔料含脂量高，或者所用的工具帶有油脂，用手指直接拿取和觸及光學零件等，都會引起油性霧，或者是光學儀器上所用油脂的化學穩定性不好，產生擴散或使用方法不當涂油過多，油脂擴散到光學零件上而引起油性霧，或者是由于儀表油脂揮發性很大，會產生油質蒸氣而形成油性霧。水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成，主要分布在零件的全面積上，產生原因主要是潮濕氣體所致，但與儀器密封性能、光學玻璃的化學穩定性，以及玻璃表面的清潔程度有關，在較高的相對濕度下，霉菌易生長，有些霉菌生長狀大后，便在菌絲體周