當前位置:> 供求商機> VT6100中圖共聚焦顯微鏡
共聚焦顯微鏡以共聚焦技術為原理、結合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等,在材料生產檢測領域中用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量:半導體制造及封裝工藝檢測、光學加工、微納材料制造、3C電子玻璃屏及其精密配件、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業及航空航天、科研院所等領域中,測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。
VT6000中圖共聚焦顯微鏡對各種產品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
1)設備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;
2)設備具備自動拼接功能,能夠快速實現大區域的拼接縫合測量;
3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數再進行測量,軟件自動統計測量數據并提供數據報表導出功能,即可快速實現批量測量功能;
4)設備具備調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能;
5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;
6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現批量數據文件的快速分析功能;
型號 | VT6100 | |
行程范圍 | X | 100mm |
Y | 100mm | |
Z | 100mm | |
外形尺寸 | 520*380*600mm | |
儀器重量 | 50kg | |
測量原理 | 共聚焦光學系統 | |
顯微物鏡 | 10×;20×;50×;100× | |
視場范圍 | 120×120 μm~1.2×1.2 mm | |
高度測量 | 重復性(1σ) | 12nm |
精度 | ± (0.2+L/100) μm | |
顯示分辨率 | 0.5nm | |
寬度測量 | 重復性(1σ) | 40nm |
精度 | ± 2% | |
顯示分辨率 | 1nm | |
XY位移平臺 | 負載 | 10kg |
控制方式 | 電動 | |
Z0軸掃描范圍 | 10mm | |
物鏡塔臺 | 5孔電動 | |
光源 | 白光LED |
1、高精度、高重復性
1)VT6100中圖共聚焦顯微鏡以轉盤共聚焦光學系統為基礎,結合高穩定性結構設計和3D重建算法,共同組成測量系統,保證儀器的高測量精度;
2)隔震設計能夠消減底面振動噪聲,儀器在嘈雜的環境中穩定可靠,具有良好的測量重復性。
2、一體化操作的測量分析軟件
1)測量與分析同界面操作,無須切換,測量數據自動統計,實現了快速批量測量的功能;
2)可視化窗口,便于用戶實時觀察掃描過程;
3)結合自定義分析模板的自動化測量功能,可自動完成多區域的測量與分析過程;
4)幾何分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析五大功能模塊齊全;
5)一鍵分析、多文件分析,自由組合分析項保存為分析模板,批量樣品一鍵分析,并提供數據分析與統計圖表功能;
6)可測依據ISO/ASME/EUR/GBT等標準的多達300余種2D、3D參數。
3、精密操縱手柄
集成X、Y、Z三個方向位移調整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦等測量前工作。
4、雙重防撞保護措施
除軟件ZSTOP設置Z向位移下限位進行防撞保護外,另在Z軸上設計有機械電子傳感器,當鏡頭觸碰到樣品表面時,儀器自動進入緊急停止狀態,保護儀器,降低人為操作風險。
在相同物鏡放大的條件下,共焦顯微鏡所展示的圖像形態細節更清晰更微細,橫向分辨率更高。中圖共聚焦顯微鏡能夠清晰地展示微小物體的圖像形態細節,顯示出精細的細節圖像。它具有直觀測量的特點,能夠有效提高工作效率,更加快捷準確地完成日常任務。
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