當前位置:> 供求商機> 共聚焦顯微鏡工業(yè)測量儀
共聚焦顯微鏡主要采用3D捕獲的成像技術,它通過數碼相機針孔的高強度激光來實現數字成像,具有很強的縱向深度的分辨能力。在材料生產領域中,共聚焦顯微鏡工業(yè)測量儀可廣泛應用于半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、微納材料制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、科研院所等領域中。可測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。
1)設備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;
2)設備具備自動拼接功能,能夠快速實現大區(qū)域的拼接縫合測量;
3)設備具備一體化操作的測量與分析軟件,預先設置好配置參數再進行測量,軟件自動統(tǒng)計測量數據并提供數據報表導出功能,即可快速實現批量測量功能;
4)設備具備調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能;
5)設備具備粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;
6)設備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,可實現批量數據文件的快速分析功能;
型號 | VT6100 | |
行程范圍 | X | 100mm |
Y | 100mm | |
Z | 100mm | |
外形尺寸 | 520*380*600mm | |
儀器重量 | 50kg | |
測量原理 | 共聚焦光學系統(tǒng) | |
顯微物鏡 | 10×;20×;50×;100× | |
視場范圍 | 120×120 μm~1.2×1.2 mm | |
高度測量 | 重復性(1σ) | 12nm |
精度 | ± (0.2+L/100) μm | |
顯示分辨率 | 0.5nm | |
寬度測量 | 重復性(1σ) | 40nm |
精度 | ± 2% | |
顯示分辨率 | 1nm | |
XY位移平臺 | 負載 | 10kg |
控制方式 | 電動 | |
Z0軸掃描范圍 | 10mm | |
物鏡塔臺 | 5孔電動 | |
光源 | 白光LED |
共聚焦顯微鏡工業(yè)測量儀對各種產品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
共焦顯微鏡系統(tǒng)所展現的放大圖像細節(jié)要高于常規(guī)的光學顯微鏡。傳統(tǒng)光學顯微鏡上常配備靈敏度較低的CCD相機來采集圖像,對于低照度的光,如熒光無法探測到,而共聚焦顯微鏡系統(tǒng)使用的探測元件是高靈敏度的光電倍增管,對微弱的熒光信號可以呈現出很高的靈敏度,并且還可以通過縮小激發(fā)范圍并使用光學切片來消除背景噪聲。
在相同物鏡放大的條件下,共聚焦顯微鏡工業(yè)測量儀所展示的圖像形態(tài)細節(jié)更清晰更微細,橫向分辨率更高。
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