產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
射頻等離子清洗機(jī)屬于電子工業(yè)的干洗,在一定的真空條件下,對(duì)氣體施加走過(guò)的能力使之離化為等離子體,等離子體處理樣品表面從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、刻蝕的目的.后將污染物轉(zhuǎn)換為氣相,并通過(guò)真空泵用連續(xù)氣體流將其排出。
一、射頻等離子清洗機(jī)的工作原理
主要通過(guò)等離子體作用在材料表面后產(chǎn)生一系列物理及化學(xué)變化,利用等離子清洗機(jī)包含的活性粒子和高能射線,與表面有機(jī)污染物分子發(fā)生反應(yīng)、碰撞,形成小分子揮發(fā)性物質(zhì),從表面移除來(lái)實(shí)現(xiàn)清潔效果。
(1) 物理反應(yīng)(Physical reaction):
主要是利用等離子體的粒子作為純物理的撞擊,把材料表面的原子打掉來(lái)清除了材料表面的污染物和刻蝕作用,將材料表面變粗糙,增加表面比和潤(rùn)濕性。
(2) 化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction):
利用表面活化在材料表面產(chǎn)生新的活性基團(tuán),利用此基團(tuán)與后續(xù)的活性物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)共價(jià)鍵結(jié)合,后續(xù)的活性物質(zhì)中帶有能夠滿足應(yīng)用的特定基團(tuán),以達(dá)到既能滿足表面特性又能牢固結(jié)合的目的。
二、真空等離子處理實(shí)拍
三、參數(shù)設(shè)置
四、設(shè)備優(yōu)勢(shì)
(1)*電源
采用*高壓激勵(lì)電源電路技術(shù),產(chǎn)生高密度等離子體.確保出眾的清洗效果。
(2)全面安全防護(hù)
溫度安全防護(hù)功能,過(guò)載防護(hù)功能,短路斷路報(bào)警防護(hù)功能,各種誤操作保護(hù)功能。
(3)*的放電技術(shù)
特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置,確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。
(4)密封性優(yōu)良的真空腔體設(shè)計(jì)
*級(jí)的高真空度真空腔體設(shè)計(jì)及制造工藝,配置進(jìn)口真空泵。
(5)優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品部件
產(chǎn)品全部部件采用國(guó)內(nèi)外優(yōu)質(zhì)部件,確保設(shè)備性能*。
(6)超低清洗溫度
滿足不同場(chǎng)合溫度要求,不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響。
(7)精美數(shù)控加工
進(jìn)口精美CNC數(shù)控機(jī)床加工工藝,并配備進(jìn)口三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控。
(8)適用于形狀復(fù)雜樣品
清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品,包括內(nèi)孔內(nèi)壁,多面均勻清洗。