OLED又叫有機電激光顯示、有機發光半導體，具有優秀的圖象質量，特別是在亮度以及對比度等方面，因此被廣泛應用于彩色顯示器。。近十年來，對OLED的研究得到廣泛的關注，對未來的圖象顯示技術帶來無法估量的沖擊。OLED器件的性能與空穴注入過程有非常密切的關系，通過使用錫摻雜氧化銦（ITO）做OLED的陽極。

    固體表面的結構和組成都與內部不同，處于表面的原子或離子表現為配位上的不飽和性，這是由于形成固體表面時被切斷的化學鍵造成的。正是由于這一原因，固體表面極易吸附外來原子，使表面產生污染。因環境空氣中存在大量水份，所以水是固體表面最常見的污染物。由于金屬氧化物表面被切斷的化學鍵為離子鍵或強極性鍵，易與極性很強的水分子結合，因此，絕大多數金屬氧化物的清潔表面，都是被水吸附污染了的。

    等離子處理機如何進行工作，工作流程？

1、首先將被清洗的工件送入真空機并加以固定，啟動運行裝置開始排氣，讓真空腔內的真空程度達到10Pa左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要幾分鐘。

2、然后向真空室內引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內壓強穩定。

3、在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿并通過輝光放電而發生等離子化和產生等離子體，讓在真空腔內產生的等離子體籠罩住被處理的工件并開始清洗作業，一般清洗處理持續幾十秒到幾十分鐘不等，根據處理材質的不同而定。

4、清洗完畢后切斷電源，并通過真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出，清洗結束。

    將基片放在底座上，在真空系統中通入不同的混合氣體，并在金屬電極上家射頻電壓將氣體電離，形成等離子體，以非常快的速度轟擊ITO基片。為了形成較均勻的電場，電極采用金屬柵網結構。等離子體的作用通常是改變表面粗糙度和提高功函數。研究發現，等離子作用對表面粗糙度的影響不大，只能使ITO的均方根粗糙度從1.8nm降到1.6nm，但對功函數的影響卻較大。

    用等離子體處理提高功函數的方法也不盡相同。氧等離子處理是通過補充ITO表面的氧空位來提高表面氧含量的。氧同表面有機污染物反應生成CO2和H2O，去除了表面有機污染物。SF6通過在ITO表面形成一層含氟層來提高表面功函數，對粗糙度的改變不明顯。Ar等離子處理是通過除區在裝載基片過程中吸附的氧來清潔ITO表面的。