半導體行業超純水設備

半導體行業超純水設備包括：精密過濾器1、一級高壓泵、一級反滲透裝置、加堿裝置、中間水箱、中間水泵、精密過濾器 2、二級高壓泵、二級反滲透裝置管閥附件及相應的儀表檢測件等。

  系統組成

     預處理：一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。預處理系統的設備配置應該根據原水的具體情況而定。

      反滲透：主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。

      后處理：是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等其中的一種或者多種設備。后處理系統能把反滲透的出水水質更好的提高，使之滿足使用要求。

       清洗：主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。

      電氣控制：是用來控制整個反滲透系統正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。

EDI超純水機的特點：

（1） 脫鹽率大于99.9%，效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。

（2） 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹脂95%以上

（3） 離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節約大量酸堿和清洗用水，降低勞動 強度。

（4） 清潔生產，無廢水處理問題，利于環保。

（5） 自動化程度高，易維護，可設計成完善的膜技術高純水生產線。

（6） 產水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，*無菌。

（7） 占地面積小，單一系統連續運轉，不需建設備用系統。

反滲透膜技術在電廠鍋爐補給水、電子、半導體行業超純水處理、化工及制藥行業的純水處理、食品、飲料、飲用水處理、海水、苦咸水淡化、冶金、輕工業、電鍍及皮革等行業的廢水處理等行業內得到了廣泛應用。