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nanoArch P150 25μm精度微納3D打印系統采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
nanoArch P150是科研級3D打印系統，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優良的光源穩定性，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 25μm |
| XY打印精度 50~200μm | 打印層厚 10~50μm | 打印樣品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H) |
| 打印文件格式 STL（單材） | 系統外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H) | 重量 300kg |
| 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設備功率 2000W |
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
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