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nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm | ||
| XY打印精度 10~ 40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 19.2mm（L）*10.8mm（W）*45mm（H） | ||
| 打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
| 重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
| 設備功率 2000W | ||||
注：①、樣品高度典型10mm，最高45mm
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復合樹脂，4D打印樹脂，生物醫療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域。
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