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nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是可以實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印，從而實現超高精度大幅面的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm | ||
| XY打印精度 10~40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm | ||
| 打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
| 重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
| 設備功率 3000W | ||||
注：①、樣品高度典型10mm,最高45mm
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復合樹脂，4D打印樹脂，生物醫療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
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