Hanks Hydra Static多坩堝電子槍真空組件
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Hanks Hydra Static多坩堝電子槍真空組件
Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍通過高效利用空間，實現了四種或更多不同材料的復雜共沉積工藝和共蒸發。Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍模塊化磁性設計能夠更加高效地生成電子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃描技術可以消除隧道效應和源材料噴發問題。插入式發射器組件和掃描線圈組件使得蒸發源更易于維護。
Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍簡單的燈絲校準、更高效的電子準直、最小化燈絲變形以及消除電子試驗的優點，非常適合用于共蒸發！
滿足：4,835,789；4,891,291；4,947,404
Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍主要特征：
· 可同時操作六（6）種不同材料（可根據要求提供其他坩堝設計）
· 全金屬密封，兼容超高真空（UHV），基底壓力測量值：2×10^-11 Torr
· Hydra™ 設計消除了相鄰源之間的相互作用
· 磁性設計允許源頭靠近，實現均勻涂層和材料相互作用
· 每個坩堝源都獨立水冷，以防止蒸汽積聚
· 每個源坩堝有獨立的掃描線圈，確保每個源的獨立操作完整性，消除相鄰源的串擾干擾
· 可拆卸坩堝煙囪設計，方便清理沉積物
· 水冷發射器基板和坩堝
· 提供10kW或15kW選項
· 坩堝容量：10cc、15cc、40cc（可根據要求提供定制尺寸）
· 270°光束偏轉，燈絲外殼隔何顆粒暴露
· 動態坩堝設計可選
· 易于拆卸的發射器組件設計
· Thermionics的Hyper-Unimelt掃頻設計（最佳低速或高速控制）
· 提供水平和垂直源法蘭安裝設計
· 消除光束彎曲
· UHV級掃描線圈隨源頭提供（200 Hz）
· 消除極片
· 簡單的燈絲校準
· 更高效的電子準直
· 最小燈絲變形
· 消除電子尾巴
· 封閉的發射器組件可防止顆粒積聚
· 每個源獨立水冷
· 設計消除串擾干擾
Hanks Hydra Static多坩堝電子槍真空組件
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