應用領域	綜合

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美國kimball physics EMG-4193電子槍系統

Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用

EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190

帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學裝置的 EMG-4193 電子槍是一個完整的子系統，可隨時連接到用戶的真空系統。可選的光發射可以通過系統的視口聚焦用戶提供的電磁輻射源來實現。EMG-4193 可以提供能量從 1 keV 到 30 keV 和電流從 1 nA 到 10 µA 的電子。該槍使用 (LaB 6 ) 陰極提供小至 25 µm 的小光斑，使用壽命長達數千小時。還可以對光束進行光柵化以對目標成像。應用包括表面物理和真空物理實驗。

能量范圍： 1 keV 至 30 keV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 25 µm 至 500 µm
安裝：4?CF
特性/選項：光發射、操作時內部對準、靜電聚焦、四極對準、八極偏轉/光柵/象散器、光束消隱、差分泵浦

美國kimball physics EMG-4193電子槍系統

Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

● 能量范圍：1 eV 至 100 keV
● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA
● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優勢：

● 客戶可更換的點火裝置
● 操作期間的機械對準
● 可存儲的控制設置
● 電腦遙控/計量

性能：

● 光束電流穩定性：反饋穩定的發射電流控制；優于每小時 ± 0.1%
● 能量穩定性：每小時 ± 0.01%，滿輸出時每 8 小時 ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應用：

● 快速脈沖/光束消隱
● 偏轉/光柵
● 槍式法拉第杯

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Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

優勢：

性能：

應用：

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Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

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