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產品簡介
射頻PECVD(射頻等離子體增強化學氣相沉積設備)是一種研發新材料的gao端設備，在高頻電磁場作用下產生高活性等離子體，從而實現材料生長、材料表界面改性等；
詳細介紹
在金屬化合物研發上的應用
1、金屬化合物的制備及摻雜調控和結構優化可在不同材料基底(金屬、碳、玻璃、半導體等)上，可控制備不同類型金屬化合物材料(氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物等),并實現了多元素摻雜(硼、硫、氟、磷等)和結構優化。
使用本設備可以直接制備金屬化合物材料(氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物等),亦可實現金屬氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物、磷化物、硼化物、氟化物、碳化物之間的相互轉化、異質構筑、異質元素摻雜和改性。
2、MOF材料衍生物制備
可對不同的MOF材料進行等離子體轉化合成不同類型的金屬化合物(如金屬氧化物、金屬碳化物、金屬硫化物、金屬磷化物、金屬硒化物、金屬氮化物等),并實現了多元素摻雜(氮、硼、氟、磷、硫、硒等)和結構優化。
在功能金屬研發上的應用
|1、鎳纖維、鈷纖維、鈦纖維、不銹鋼纖維等的界面改性及摻雜調控和結構優化
可對金屬纖維(鎳纖維、鈷纖維、鈦纖維、不銹鋼纖維等)表界面進行組分優化和物相調控，可在其表面實現多元素摻雜(氮、硫、氟、磷等)和物相結構優化，比如將其界面組分改造為各類型金屬化合物(如氧化物、碳化物、硫化物、磷化物、硒化物、氮化物等),使其具有良好的導電性和催化儲能性能。
2、泡沫鎳、泡沫銅的界面改性及摻雜調控和結構優化
可對泡沫鎳(泡沫銅)表界面進行組分優化和物相調控，可在其表面實現多元素摻雜(氮、硫、氟、磷等)和物相結構優化，比如將其界面組分改造為各類型金屬化合物(如氧化物、碳化物、硫化物、磷化物、硒化物、氮化物等),使其具有良好的導電性和催化儲能性能。