產地類別 |
國產 |
價格區間 |
面議 |
應用領域 |
地礦,航天,電氣 |
科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
型號:VTC-2DC2英寸
產品概述:
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
型號:VTC-2DC2英寸
產品概述:
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
主要參數:
- 輸入電源:220V AC 50Hz
- 輸出電壓:600 VDC
- 輸出功率:大500W
- 整機功率:1000W(包括真空泵)
濺射腔體:
- 采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x250mm H(配置直靶頭)
- 尺寸:166mm OD x 150mm ID x290mm H(配置帶角度傾斜靶頭)
- 密封法蘭:直徑為165mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈
濺射頭&樣品臺:
- 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸,同時可選配1英寸濺射頭
- 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調
- 樣品臺可加熱,加熱溫度RT-500℃(RT為室溫)
- 安裝有一可手動操作的擋板
- 大可制膜的直徑為:2英寸(標配2英寸,如果需要更大尺寸請與我們銷售聯系)
真空系統:
- 安裝有KF25真空接口
- 數字真空壓力表(Pa)
- 此系統運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含)
- 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值,詳情請點擊)
- 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值,詳情請點擊)
- 可在本公司選購各種真空泵
進氣:
- 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
- 設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流
靶材:
- 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
- 可在本公司選購各種靶材
薄膜測厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
產品外形尺寸:
540mm L x540 mm W x1100mm H
凈重:70 kg(不包括泵)
科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
型號:VTC-2DC2英寸
質量認證:CE認證
- 使用提示:
有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 - 為了得到較好的薄膜質量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
- 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
- 要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面
- 超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
- 等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
- 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
警告:
- 注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
- 氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
- 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶