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Nanoscribe公司推出全新IP-PDMS光刻膠，該雙光子聚合（2PP）打印材料可制作彈性體3D自由曲面結(jié)構(gòu)。全新IP-PDMS光刻膠所具備的柔軟度，柔韌性，彈性和生物兼容性是為依賴于典型彈性體材料特性的應(yīng)用而定制的。因此，該光敏樹脂材料可廣泛應(yīng)用于未來多種領(lǐng)域，例如3D打印細(xì)胞支架和組織工程，3D結(jié)構(gòu)表面，微流控設(shè)備和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）等。IP-PDMS針對(duì)Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)進(jìn)行了優(yōu)化，并兼容3D微納加工中尺度解決方案：

IP-PDMS光刻膠特性：

·       楊氏模量比IP-S低三個(gè)數(shù)量級(jí)，15.3MPa

·       高彈性特點(diǎn)，斷裂拉伸伸長(zhǎng)率超過240%

·       低折射率特點(diǎn)

·       無生物毒性，符合ISO 10993-5 / USP 87

·       高柔韌性材料，廣泛適用于不同應(yīng)用

左圖：萊布尼茨新材料研究所的抗壓強(qiáng)度測(cè)試

來自德國萊布尼茲新材料研究院（Leibniz INM, Institute for New Materials, Saarbrücken）的 René Hensel博士稱："Nanoscribe可直接3D打印的IP-PDMS光刻膠非常適合制作具有微觀形貌的功能性表面。可以省略費(fèi)時(shí)的塑模環(huán)節(jié)，即將設(shè)計(jì)翻模到彈性體材料中，這全新的方式使更多新的設(shè)計(jì)變得可能。"

作為有機(jī)硅基彈性體材料，IP-PDMS具有與常規(guī)PDMS相似的性能，這使得新型IP-PDMS光刻膠成為制作具有柔軟，柔韌性和彈性特點(diǎn)的3D微納結(jié)構(gòu)高精度增材制造的理想打印材料。IP-PDMS的無生物毒性特點(diǎn)（符合ISO國際標(biāo)準(zhǔn)）為生命科學(xué)和生物學(xué)領(lǐng)域的新型3D打印應(yīng)用奠定基礎(chǔ)。全新光敏樹脂非常適合用于制作彈性體自由曲面細(xì)胞支架以及仿軟組織自然特征的3D設(shè)計(jì)。

由IP-PDMS打印的結(jié)構(gòu)圖示（從左到右）：微錐結(jié)構(gòu)特寫；微錐陣列；單個(gè)元素外徑僅50 µm的八面體；八面體陣列；不同體積大小的3D長(zhǎng)方體陣列；長(zhǎng)方體陣列特寫

科學(xué)家們通過研究壁虎驚人的爬行能力，了解到壁虎的每個(gè)腳底長(zhǎng)者數(shù)百萬根極細(xì)的剛毛，而每根剛毛末端又有數(shù)百根更細(xì)的微納米結(jié)構(gòu)分支，這使壁虎可以適應(yīng)任何表面。近日，來自萊布尼茲新材料研究所（INM）的科學(xué)家們使用Nanoscribe的Photonic Professional系統(tǒng)設(shè)計(jì)各種不同形狀的3D粘附微納結(jié)構(gòu)母版，然后將該母板通過復(fù)制壓模來最終制造3D粘附微納結(jié)構(gòu)。該設(shè)計(jì)有望可應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)線的抓取任務(wù)，和更多其他應(yīng)用，包括用于維護(hù)服務(wù)的攀爬機(jī)器人或用于清除繞地球軌道飛行的空間碎片系統(tǒng)等。

由3D微納加工母版經(jīng)復(fù)制壓模制造的仿生學(xué)粘附微納結(jié)構(gòu)陣列。

圖片來自于R. Hensel, INM – Leibniz Institute for New Materials

Nanoscribe的無掩模雙光子光刻技術(shù)具備*的設(shè)計(jì)自由度，能實(shí)現(xiàn)幾乎任何幾何形狀的粘附微納結(jié)構(gòu)。科學(xué)家們運(yùn)用該技術(shù)特別設(shè)計(jì)了帶翼面柱狀排列的漏斗形微納結(jié)構(gòu)。通過調(diào)節(jié)翼面的角度，可以控制微納結(jié)構(gòu)的粘合度，該微納結(jié)構(gòu)無論是在干燥條件下甚至是水下都能表現(xiàn)出更強(qiáng)的粘合度。

通常這類設(shè)計(jì)和應(yīng)用我們用復(fù)制工藝來制造的這些具有應(yīng)用潛力的粘附微納柱狀陣列。然而，復(fù)制壓模工藝限制了設(shè)計(jì)自由度，例如較大的底切不能從模具上成形。 Nanoscribe開發(fā)的新型可直接打印的彈性體材料，為今后直接打印彈性微納結(jié)構(gòu)的高級(jí)設(shè)計(jì)開辟了新的可能性。

Nanoscribe總部位于卡爾斯魯厄，作為一家德國高科技公司，基于雙光子聚合技術(shù)我們擁有納米級(jí)高精度增材制造技術(shù)，擁有針對(duì)科研和工業(yè)領(lǐng)域的創(chuàng)新定制化解決方案，實(shí)現(xiàn)了全球化銷售網(wǎng)絡(luò)和專業(yè)服務(wù)。經(jīng)過十幾年的技術(shù)鉆研和開發(fā)，我們已然成為微納米高精度增材制造的市場(chǎng)先鋒者，推動(dòng)者諸如微納光學(xué)，微機(jī)械，生物醫(yī)學(xué)工程，微流控，超材料等領(lǐng)域的創(chuàng)新項(xiàng)目。我們的業(yè)務(wù)遍布全球30多個(gè)國家，擁有超過2000名活躍的用戶。

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德國Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無掩模光刻系統(tǒng)：

     Photonic Professional GT2   雙光子微納3D無掩模光刻系統(tǒng)

     Quantum X                             雙光子灰度光刻微納打印設(shè)備