Nanoscribe QX系列雙光子無掩
雙光子微納打印系統Quantum X在2020美國西部光電展深受關注
The SPIE Photonics West 2020 成功落幕,作為北美地區規模大光學領域貿易博覽會,也是光電子行業*的展覽會,超過1300家公司參加了展會。此次展會開展了超過5000個精彩的會議演講,包含多個主題,例如生物光子學,工業激光器,光電子學,微加工,微電子機械系統,微光機電系統和顯示器等,展現了前沿的光學和光子技術。
Nanoscribe在展會上介紹了3D微加工領域的進展,其中新品Quantum X系統引起了光子學界的濃厚興趣。參觀者對于多層衍射光學元件和新型折射微光學設計的制造也進行了積極的討論。Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統的技術核心是Nanoscribe特別研發的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該設備能在保持*精度的同時達到160nm橫向低打印線寬,≤10nm表面粗糙度,使其同時具備高速打印,*設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優異形狀精度和光滑表面的*要求。
此外,在展會上發布的新型IP-Visio打印材料也受到了生物醫學領域的巨大反響。這種打印材料具有無生物毒性,低熒光的特點且專為生物兼容微結構3D微加工而設計。借助自住研發的打印材料IP-Visio, Nanoscribe的3D打印設備為生產3D細胞培養和組織工程所需的復雜微環境開辟了新的道路。會議期間各界的巨大反響證明了微加工已然成為光學和光子學行業的關鍵技術之一。
Nanoscribe秉持著卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景,經過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產領域的。為了拓展并加強中國及亞太地區的銷售推廣和售后服務范圍, 在2017年底Nanoscribe在上海成立了獨資子公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司,并設立亞太實驗室供參觀訪問。
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