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德國hellma 晶體材料 氟化鈣晶體技術參數
閱讀：618 發布時間：2024-1-8Hellma Materials和CVD Ceramics是高品質晶體和陶瓷光學材料的制造商，為各行各業提供服務。其中包括微光刻、光學、激光技術和輻射檢測。憑借長期的技術專長和對客戶需求的高度關注，我們產品的認可和始終如一的質量使我們能夠成為越來越多的滿意客戶的可靠供應商。
氟化鈣晶體
閃爍晶體
氟化晶體
CVD 硫@化鋅Cleartran®
激光晶體
CVD硒化@鋅
氟化鈣晶體
用于UV/VIS/IR應用的光學材料
多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導體生產微光刻的光學關鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業標準材料。CaF2 的光學特性使各種高級應用成為可能。
應用
由于其的光學質量和在紫外、可見分光光度計和紅外光譜范圍內的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應用：
紅外光學器件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學器件
顯微光刻光學器件
優勢
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學特性：
從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和輻射耐受性
直徑可達 420mm
氟化鋇VIS/IR光學材料
Hellma Materials BaF2 在高達 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內具有出色的透射率。
這允許在可見光和紅外雙通道系統中將 BaF2 用作寬帶光學材料，用于可見光和熱成像。
BaF2 的折射率低于許多其他光學材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。
應用
Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學材料，適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復雜的應用中得以利用：
集成VIS通道的熱成像和夜視
用于天文儀器的光學元件
紅外激光光學器件
用于檢測高能γ輻射>5Me的閃爍體
優勢
Hellma Materials BaF2 是一種的光學材料：
可見光透射率高，紅外范圍擴展至12μm
低折射率 （nd = 1.47447）
低光譜色散 （vd = 81.61）
直徑可達 360 mm