該臺式納米顆粒沉積系統，專為正在研究納米顆粒性質和應用的科學家或技術人員而設計。 該儀器可產生非團聚的超純納米顆粒涂層。
該系統的設計使用簡單，通過清晰的樣品引入門和簡單的觸摸屏即可輕松加載樣品，從而簡化系統操作。

緊湊型臺式設計和簡單的觸摸屏操作使該系統非常適合任何研究納米顆粒應用的實驗室。
真空沉積工藝可生產出無烴或其他污染物的超純納米顆粒，這通常困擾化學技術。 納米顆粒涂層直接沉積在您的基材上，經過30分鐘的典型循環時間后即可進行分析； 無需進一步的干燥或純化步驟。

該系統可在真空中生成超純和單分散的納米顆粒，然后將其直接沉積到目標基質上。 NL50避免了使用溶液和粉末基納米顆粒時面臨的許多問題。
該系統可以在幾分鐘內將納米顆粒沉積到任何固體基材上。常用材料的簡單配方使研究人員能夠將裸露的納米粒子（例如Ag或Au）沉積到其基底上，
然后準備用所需的蛋白質或抗體直接進行功能化。 該系統利用一種稱為終止氣體聚集的技術在真空中生成納米顆粒。

為什么選擇該NL50納米顆粒沉積系統
通過克合成的化學合成納米顆粒已經問世，那么為什么要投資購買沉積真空相納米顆粒的設備呢？該系統中產生的納米粒子超純且不含表面活性劑或配體，并且在沉積后即可立即進行功能化，從而無需冗長而復雜的多步化學純化工藝。納米顆粒也是單分散的，因此避免了與結塊有關的問題。實時控制沉積密度，可確保從單分散顆粒到3D多孔涂層的各種應用中可重復的結果。使用這種技術，納米材料的切換也非常快捷。與化學合成開發需要花費數月的時間不同，目標材料可以在數分鐘內更換，以沉積各種常見的金屬或合金。直接沉積到基材上意味著浪費少，因為僅需按需制備納米顆粒即可。

可在客戶的樣品上沉積一系列純凈的納米顆粒和合金納米顆粒。
沉積過程是在真空中進行的，以確保可控的無污染過程。
我們提供對納米顆粒尺寸和面積覆蓋的出色控制。
可以優化納米顆粒薄膜的孔隙率，以滿足客戶的需求。
我們還可以提供某些材料的一些標準演示樣本。
由該納米顆粒沉積系統產生的納米粒子是通過磁控管濺射法生成的，使用的是少量的氬等離子體，以生成所需材料的原子。
然后，這些原子在非常短的時間內（<1μs）被熱化并形成納米顆粒。
納米顆粒通過一個小孔射入沉積室并射到樣品上
用戶可以通過調節等離子體功率和氬氣流量在2-20nm左右的范圍內改變尺寸（取決于材料）。

超純納米顆粒
納米顆粒沉積系統利用磁控濺射在真空中產生一束超純納米顆粒。 納米粒子的特征是：
●超純無烴
●不結塊
results一致且可重復的結果
●選擇材料包括Au，Ag，Cu，Pt，Ir，Ni，Ti和Zr
●生成復合納米顆粒，例如氮化物和氧化物

沉積控制

使用石英晶體監控器（QCM）進行實時沉積控制，可以對從亞單層覆蓋到多孔3D結構的表面載荷進行且可重復的控制。 沉積時間通常為幾分鐘。 沉積速率范圍為10-50ng / cm²s

靈活的基板加載
NL50專為各種基材類型而設計，直徑大可達50mm。 由于在沉積室內不會產生熱量，因此即使是易碎的基材也適用。 基材包括但不限于
●顯微鏡載玻片
●培養皿
●微孔板
●電極
●膜
●塑料
易于使用
直觀的用戶界面易于使用，并允許抽空和沉積順序的*自動化。
●全自動抽氣和排氣
common預加載的常見材料優化沉積設置
●用戶可以控制沉積條件以改變納米粒子的大小和沉積速率
using使用沉積重量或沉積時間選擇沉積控制。
表面清潔和預處理
該系統提供對導電基材的可選原位等離子體清潔。
在真空中，等離子體清潔從基底上除去吸附的分子，以幫助沉積的納米顆粒粘附并在沉積之前使基底表面功能化。
對于易碎的基材，只需在配方中取消選擇等離子體清潔步驟。