布局形式 | 臥式 | 分離因素Fr值范圍 | 常速 |
---|---|---|---|
結(jié)構(gòu)和分離要求 | 沉降離心機(jī) | 結(jié)構(gòu)類(lèi)型 | 臺(tái)式 |
類(lèi)型 | 三足離心機(jī) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
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實(shí)際應(yīng)用
藥品生產(chǎn)行業(yè)在積極貫徹 GMP 的同時(shí),為醫(yī)藥工業(yè)生產(chǎn)服務(wù)的制藥裝備行業(yè)相應(yīng)提出了《制藥裝備符合藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范的通則》等指導(dǎo)性標(biāo)準(zhǔn),以配合規(guī)范的實(shí)施。這里制藥裝備所提出的“符合”與制藥行業(yè)的“貫徹”表達(dá)出制造方和使用方兩者有著不“符合”就不能很好的“貫徹”,要“貫徹”就必須“符合”的不可分割的聯(lián)系。在討論分離機(jī)械產(chǎn)品符合 GMP 問(wèn)題前,先了解一下制藥行業(yè) GMP 的實(shí)施情況,再?gòu)闹扑幯b備產(chǎn)品符合 GMP 角度來(lái)探討分離機(jī)械符合 GMP 的問(wèn)題。
備密封缺陷導(dǎo)致藥品再次受污染等。另外出現(xiàn)問(wèn)題還涉及制造設(shè)備的材料、所使用的介質(zhì)、設(shè)備的結(jié)構(gòu)(防靜電、防爆、密封、潤(rùn)滑、清洗結(jié)構(gòu))、操作方法以至設(shè)備排放(散塵、散熱、廢氣、廢水)等。由于制藥加工設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造、使用等環(huán)節(jié)都可能存在引發(fā)污染和交叉污染的潛在危險(xiǎn),F(xiàn)DA 將其原因歸結(jié)為“過(guò)程失控”,故提出對(duì)藥品生產(chǎn)環(huán)節(jié)進(jìn)行管理和對(duì)生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行驗(yàn)證的規(guī)定,誕生了GMP,使制藥用設(shè)備區(qū)別于一般用途機(jī)械而處在受監(jiān)控的狀態(tài),這是 GMP 對(duì)制藥生產(chǎn)設(shè)備的明確觀點(diǎn)。鑒于GMP 有對(duì)制藥設(shè)備的專(zhuān)門(mén)要求,以及制藥設(shè)備所涉及的各種藥物性狀(熱敏性、黏附性、吸濕性、揮發(fā)性、反應(yīng)等)、劑型(膜劑、膏劑、栓劑、氣霧劑、輸液劑、片劑、膠囊微丸劑等)、制藥工藝方法或過(guò)程(反應(yīng)、結(jié)晶、發(fā)酵、蒸餾、萃取、分離、