產品簡介
博斯達公司根據目前國內外傳統二氧化氯消毒,存在鹽酸原材料購買困難(需要系統備案)、二氧化氯發生效率低,成本高。成品二氧化氯存在濃度低,含量低,投加量大,投加成本高等現狀,研發生產博斯達系列BSD型一體集成(模塊化)次氯酸鈉發生器
詳細介紹
呼倫貝爾次氯酸鈉發生器參數
次氯酸鈉發生器以稀鹽水為電解液,通以直流電進行電解,產生次氯酸鈉消毒液,然后投入水體中進行消毒。部分為電解電極和電源,輔以軟水單元、溶鹽單元、控制單元等設備配套使用。該工藝具有原料易得、運行穩定、產品純凈等特點,可廣泛用于各類水質的氧化、消毒等。
組成結構
電解法次氯酸鈉發生器生產的HCCL次氯酸鈉發生器一般由化鹽裝置、電解裝置、整流設備、配兌水系統、自控裝置和儲藥液箱等幾大部分組成。其中部分——電解裝置,是由一組涂有鉑、釕、銥、銠等稀有金屬納米涂層的特種金屬材料做陽極,耐腐蝕的特種金屬材料做陰極,組成密閉的電解槽容器。并且,其電解槽內部設有反沖洗系統和冷卻系統。
呼倫貝爾次氯酸鈉發生器參數
化鹽裝置、儲藥液箱、配水系統、酸洗裝置等各個分體設備全部采用我公司特定制作的FRP等高強度復合材料制造,極不同于易于老化的 一般性PVC材料制作;大型次氯酸鈉生成器(電解槽)為包裹有特種材料的合金外殼,內貼***復合材料。整套設備***防腐、強抗老化、經久耐用。
反應原理:次發生器是一套由低濃度(2.5%-3.5%)食鹽水通過通電電極發生電化學反應以后生成次溶液的裝置。反應方程式如下: NaCl + H2O → NaClO + H2↑
電極反應:
陽極: 2Cl- - 2e → Cl2
陰極: 2H+ + 2e → H2
溶液反應: 2NaOH + Cl2 → NaCl + NaClO + H2O
執行標準:次發生器標準GB 12176-90;
產品特點
發生器使用原料易得(鹽),;
發生器電極板涂層采用進口的納米涂層,涂層壽命可達5年以上;
發生器采用高頻電解電源,電源采用*,轉化效率可達90%-95%以上;