日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

• 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm

• 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm

 日立高新磁控濺射器

特點：

• 采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件

• 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

• 記憶功能可存儲常用加工條件

規格：