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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
氧氮?dú)浞治鰞x技術(shù)特點(diǎn)
1，分析速度快，自動(dòng)化操作。
2，高靈敏度紅外和熱導(dǎo)池檢測(cè)器用于氧氫的檢測(cè)
3，非接觸式紅外溫控系統(tǒng)，實(shí)時(shí)監(jiān)控石墨坩堝內(nèi)樣品的溫度，具有獨(dú)立的溫控模式，確保分析結(jié)果的穩(wěn)定性以及利于新樣品的方法開發(fā)。
4，大容量粉塵過(guò)濾器，有效延長(zhǎng)維護(hù)間隔時(shí)間
5，整體加工的高溫耐受爐頭和一體化設(shè)計(jì)的水冷系統(tǒng)，適合于Ti等難熔金屬分析；
6，基于Windows系統(tǒng)的操作軟件，界面友好，功能強(qiáng)大，該軟件系統(tǒng)兼容布魯克旗下的所有設(shè)備，可以方便實(shí)現(xiàn)信息的傳輸和共享。
氧氮?dú)浞治鰞x優(yōu)點(diǎn)：
智能分子測(cè)試技術(shù)TM (as applied in the G8 GALILEO•
直接以測(cè)CO的方式測(cè)氧
• 無(wú)需轉(zhuǎn)化為CO2 檢測(cè) (無(wú)需額外的轉(zhuǎn)化試劑)
• 無(wú)CO2 和 H2O譜圖干擾
• 無(wú)需隱藏的方法校正
每種分子以其釋放的形式檢測(cè)- 無(wú)需轉(zhuǎn)化，每種元素采用適合的檢測(cè)技術(shù)。
• Oxygen Þ CO (NDIR)
• Nitrogen Þ N2 (TCD)
• Hydrogen Þ H2 (TCD)
熔融控制技術(shù) (see m.p. diagram)
• 精確溫度控制Þ 避免副產(chǎn)物的產(chǎn)生
• 通過(guò)FUSION.ELEMENTS控制
• 通過(guò)非接觸式光學(xué)溫度監(jiān)控系統(tǒng)控制
SampleCareTM 實(shí)現(xiàn)可靠性和經(jīng)濟(jì)的分析手段
• 直接反饋式電子驅(qū)動(dòng)下電極模塊
• 無(wú)需動(dòng)力氣體
• 通過(guò)扭矩控制方式實(shí)現(xiàn)理想的電極接觸
• 屏蔽式樣品口
• 一體化冷卻爐頭避免坩堝脫氣過(guò)程樣品的受熱(H 損失)
• 旋轉(zhuǎn)式進(jìn)樣口適口于各類樣品，沒(méi)有卡樣風(fēng)險(xiǎn)，細(xì)顆粒樣品無(wú)需錫囊或鎳囊
• 大容量粉塵過(guò)濾器
• 延長(zhǎng)維護(hù)周期
• 高效粉塵過(guò)濾效果
高精度檢測(cè)器技術(shù)
G6對(duì)于氧/氮的檢測(cè)分別采用高靈敏度紅外和熱導(dǎo)檢測(cè)器，檢測(cè)帶有獨(dú)立恒溫單元。紅外檢測(cè)器采用電子頻率切光，確保了更好的光源穩(wěn)定性。熱導(dǎo)檢測(cè)器采用雙通道設(shè)計(jì)，參比通道可以更大程度地避免環(huán)境對(duì)于信號(hào)的干擾。對(duì)于這兩個(gè)檢測(cè)器，布魯克承諾提供3年的保修期。
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍
O：0.1ppm-3%
H：0.1ppm-3000ppm
分析時(shí)間：
氧氮：大約180s
分析精度：
分析精度：± 0.05 ppm 或 ± 1 %相對(duì)，優(yōu)于固體標(biāo)樣證書所標(biāo)稱的精度值。
靈敏度：0.001ppm
電源供應(yīng)：
分析儀：400V，7KVA
外圍設(shè)備：230V，800VA
載氣：
N2純度99.999%
壓力2bar
壓縮空氣：干，5bar
冷卻水：大約4l/min
儀器尺寸：700 x 830x 600 mm (W x D x H)