XRF膜厚分析儀 fischer X光測厚儀分為手持式和臺式二種，手持式又有磁感應鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。手持式的磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

應用行業

1、 電子半導體行業接插件和觸點的厚度測量 2、 印刷線路板行業功能鍍層厚度測量 3、 貴金屬首飾手表行業鍍層厚度測量 4、 五金電鍍行業各種防腐性、裝飾性及功能鍍層厚度測量

參數規格

1．分析元素范圍：硫（S）～鈾（U）；
2.同時檢測元素：多24個元素，多達5層鍍層；
3.分析含量：一般為2ppm到99.9%；
4.鍍層厚度：一般在50μm以內（每種材料有所不同）；
5.SDD探測器：分辨率低至135eV；
6.的微孔準直技術：小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm；
7.樣品觀察：配備全景和部兩個工業高清攝像頭；
8.準直器：0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準直器組合；
9.儀器尺寸：690（W）x 575（D）x 660（H）mm；
10.樣品室尺寸：520（W）x 395（D）x150（H）mm；
11.樣品臺尺寸：393（W）x 258 （D）mm；
12.X/Y/Z平臺移動速度：額定速度200mm/s 速度333.3mm/s；
13.X/Y/Z平臺重復定位精度：小于0.1um；

測試實例

在計數率的情況下能分辨相近元素，大大提高測試穩定性、降低檢測限。

11次測量結果（Au-Cu)的穩定性數據對比如下：

測試結論：實驗表明，使用電鍍膜厚測試儀對鍍件膜厚測試，結果度高，速度快（幾十秒），其測試精度優于國外儀器。

X射線和β射線法是無接觸無損測量，測量范圍較小，X射線法可測極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。

β射線法適合鍍層和底材原子序號大于3的鍍層測量。電容法僅在薄導電體的絕緣覆層測厚時采用。

隨著技術的日益進步，特別是近年來引入微機技術后，采用X射線鍍層測厚儀 向微型、智能、多功能、高精度、實用化的方向進了一步。

五金電鍍層膜厚儀設計亮點
全新的下照式設計，一鍵式的按鈕，讓您的鼠標鍵盤不再成為必須，極大減少您擺放樣品的時間。
全新的光路系統，大大減少了光斑的擴散，實現了對更小產品的測試。
搭配高分辨率可變焦攝像頭，配合高性能距離補正算法，實現了對不規則樣品（如凹凸面，拱形，螺紋，曲面等）的異型測試面的精準測試。

硬件配置
采用高分辨率的SDD探測器，分辨率高達140EV進口的大功率高壓，讓Ag,Sn等鍍層的測量能更加穩定。
配備微聚焦的X光管，猶如給發動機增加了渦輪增壓，讓數據的準確性更上層樓。
多種準直器可搭配選擇：0.1*0.2mm；Φ0.15mm;Φ0.2mm；Φ0.3mm。貼心打造出適合您的那一款。

軟件界面
人性化的軟件界面，讓操作變得更加便捷。曲線的中文備注，讓您的操作更易上手。儀器硬件功能的實時監控，讓您的使用更加放心

鍍層測厚儀主要功能

　　1、測量：單探頭全量程測厚，儀器自動補償偏差值。

　　2、數據管理： 通過分組的方式來管理存儲的數據。一共分6組，每組包含99個數據。 可以對任意一組數據進行查看、刪除、打印以及通信操作。

　　3、測量模式：包括常規測量模式和監控測量模式兩類測量模式。可以在不同的工作現場下給用戶提供不同的使用方式，以解決現場的需求。

　　a、常規測量

　　測量時儀器只顯示測量數據的基本信息，能夠滿足用戶最基本的測量需要。

　　b、最小值捕捉

　　測量數據時，儀器會自動捕捉到最小的測量值。如果工廠驗收以樣品的最小厚度值為檢驗標準的話，那么這種測量模式無疑是選擇。

　　c、統計測量

　　在這種模式下，儀器的功能欄里會同時顯示出測量數據的值、最小值、平均值、測量次數。給用戶提供更加直觀和方便的數據分析，進而對現場工件的優劣情況進行實時的觀測。

XRF鍍層測厚儀俗稱X射線熒光測厚儀、鍍層測厚儀、膜厚儀、膜厚測試儀、金鎳厚測試儀、電鍍膜厚儀等，主要用于精密測量金屬電鍍層的厚度。

XRF鍍層測厚儀：俗稱X射線熒光測厚儀、鍍層測厚儀、膜厚儀、膜厚測試儀、金鎳厚測試儀、電鍍膜厚儀等；功能：精密測量金屬電鍍層的厚度；應用范圍：測量鍍層,涂層,薄膜,液體的厚度或組成,測量范圍從22（Ti）到92（U）;5 層 （4 鍍層 + 基材） / 15 元素 / 共存元素校正;元素光譜定性分析;測試方法面符合 ISO 3497, ASTM B568 和DIN 50987應用群體主要集中在：電路板、端子連接器、LED、半導體、衛浴潔具、五金電鍍、珠寶首飾、汽車配件、檢測機構以及研究所和高等院校等；原理：X射線熒光什么是X射線?X射線存在于電磁波譜中的個特定區域,它由原子內部電子躍遷產生,其波長范圍在0.1-100?;能量大于100電子伏特.什么是X射線熒光?X射線熒光 是個原子或分子吸收了特定能量的光子后釋放出較低能量的光子的過程。