VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性

涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在全部真空的狀態下進行涂膜，適用于

在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。VTC-200PV真空旋轉涂膜機工作時利用真空盤吸附的方式將樣品

固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同，使設備

緩慢提升速度，極限速度，有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜，且不會過多浪費，節約材料。VTC-200PV

真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中

進行薄膜的生成過程。

性能指標和基本配置
產品名稱	VTC-200PV真空旋轉涂膜機
產品型號	VTC-200PV
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有進出水口 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：不需要 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要
主要特點	1、設有12組程序，每組包含6個運行階段，每段增減速率設置范圍：100—2000rpm/s,每段時間范圍：0—60s。 2、樣品可采用真空吸附的方式進行固定，也可采用粘結或夾持的方式進行固定，操作簡便。 3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。 4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片。 5、根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單。 6、電機采用直流無刷電機，無級調速，可靠性高，適應性強，維修與保養簡單，噪音低，震動小，運轉平穩，啟動快速穩定，加速后運行平穩，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。 7、當用真空吸附方式固定樣品時采用無油雙杠真空泵，體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。 8、可在惰性氣體氣氛下進行涂層 9、可在真空狀態下進行涂層，此時需要用粘接基片或夾持基片的方式對被涂基片進行固定。 10、腔體通體采用聚丙烯材質，使用壽命更長，提高耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能。 11、全英文操作系統。 12、具有開蓋保護功能，當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止. 13、控制器采用控制箱，液晶顯示數值，更直觀可靠。
技術參數	1、功率：350W/24V 2、轉速：500rpm-6000rpm 3、時間：1s-60s 4、腔體真空度可達1Torr（VRD-8機械泵連續工作）
產品規格	尺寸：?250mm×290mm；重量：25kg
標準配件	1	真空吸盤	1個
	2	夾持吸盤	1個
	3	無油真空泵	1臺
可選配件	VRD-16機械泵	移液器	其它尺寸的真空吸盤