電子工業氣體:

高純度硅烷氣體雜質組份的檢測

一:應用領域：
硅烷在大規模集成電路（LSI）、超大規模集成電路（VLSI）和半導體器件制造中，用于氣相外延生長、化學氣相淀積等工藝（工序）。
1. 外延（生長）混合氣 在半導體工業中，在仔細選擇的襯底上選用化學氣相淀積的方法，生長一層或多層的材料所用的氣體叫做外延氣體。常用的硅外延氣體有二氯二氫硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀積，多晶硅淀積，氧化硅膜淀積，氮化硅膜淀積，太陽能電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積等。外延生長是一種單晶材料淀積并生長在襯底表面上的過程。 
2. 化學氣體淀積（CVD）用混合氣 CVD是利用揮發性化合物，通過氣相化學反應沉積某種單質或化合物的一種方法，即應用氣相化學反應的一種成膜的方法。依據成膜種類，使用的化學氣相淀積（CVD）氣體也不同。

二:硅烷中微量雜質的分析一直是色譜分析的難點。
目前多數采用的熱導檢測器由于靈敏度有限，很難測定5ppm以下的雜質；火焰離子化檢測器和氧化鋯檢測器是選擇性的檢測器，只能分析少數幾種氣體雜質，均不能很好的滿足硅烷氣體分析的基本要求。
PDHID檢測器（脈沖放電氦離子檢測器）是一種靈敏度的通用型檢測器，對幾乎所有無機和有機化合物均有很高的響應，特別適合*氣體的分析，是*能夠檢測至ng/g（ppb）級的檢測器。