日本雅瑪拓V1000/1000X/1000XS大容量等離子清洗機(jī) 高頻輸出 100~1,000W（V1000）/100~1,000W&1,500W（V1000X/1000XS）
電極尺寸 280×280mm（V1000） 300×300mm（V1000X） 400×375mm（V1000XS）
13.56MHz 高頻輸出的離子清洗機(jī)，搭載 RIE·DP 雙模式。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號，調(diào)取數(shù)據(jù)簡單，以電子材料為中心，可對應(yīng)多種用途。

特征
● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機(jī)物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除

V1000/1000X/1000XS大容量等離子清洗機(jī)的技術(shù)規(guī)格

其他產(chǎn)品介紹：YSP600U/2KU等離子清洗機(jī)
高頻輸出 YSP600U：600W YSP2KU：2000W 反應(yīng)臺尺寸 YSP600U：300×300mm YSP2KU：600×600mm
樣品傳輸系統(tǒng)為模塊式，便于組合。
用途
● 提高各種材料的粘接性、表面改質(zhì)處理
● 清洗各類基板。
● 電子部品、材料表面改質(zhì)。
● 去除有機(jī)物和自然氧化膜。
特點(diǎn)
● 體積小，節(jié)省空間。
● 選用小型腔體，反應(yīng)效率高。
● 更容易嵌入生產(chǎn)線使用。
● 可通過操作面板自由切換等離子模式。
● 配備冷卻反應(yīng)臺。