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ENT-5 納米壓痕試驗機

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更新時間:2022-02-22 13:31:14瀏覽次數:621

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產品簡介

應用領域 綜合
日本Elionix ENT-5 納米壓痕試驗機專門對于軟質材料(彈性模量:幾GPa或更小)和10nm或更小測試深度的測試可以獲得優異的重復性和穩定性,這使得100nm或更小的超薄膜的納米壓痕測試成為可能。

詳細介紹

ENT-5 納米壓痕試驗機

適用于各種材料:

l  電鍍、硬涂層薄層

l  樹脂、聚合物薄膜

l  超薄DLC涂層

l  功能性樹脂、表面改性層

l  細顆粒和粉末材料

 

5Elionix納米壓痕測試儀

l  通過抑制測量環境中的干擾實現高數據再現性

l  可靠精密的“日本制造"

l  支持從0.5μN2,000mN的廣泛測試負載

 

納米壓痕測試

l  可以獲得薄膜或表層的硬度和彈性模量等機械特性。分析加載/卸載曲線以確定特性。

l  分析加載/卸載曲線以確定特性,無需觀察壓痕

l  符合ISO14577-1 / JIS Z 2255

 

產品特點:

1.    溫度控制

防止樣品和試驗機熱膨脹

環境隔離罩內溫度控制在±0.1℃

機架和樣品架/載物臺使用低熱膨脹材料(Nobinite

減少環境氣流的影響

 

2.    高精度定位平臺

采用Elionix電子束光刻系統內部開發的高精度“Kusabi"平臺

0.1um定位步長

2,000倍的放大倍率觀察材料并設置測量點。

 

3.    主動隔振

抗振楔形高精度平臺

主動隔振臺

 

4.    軟件

日常檢查的彈出提示:壓頭頂端校正,溫度漂移校正。

易于使用的操作

 

5.    數據再現性

通過抑制振動和溫度變化引起的干擾提高數據再現性。

即使連續測量也能獲得穩定數據

 

6.    可維護性

易于更換裝載裝置

易于更換裝載裝置,將停機時間降低

 

技術參數:

負載/負載分辨率

位:5μN2,000mN5nN
 
位:0.5μN10mN0.03nN

方式

量范

±50µm

量分辨率

0.3pm

量方法

光學的

本量(典型)

φ50t3.5mm

量區域

X50mm,Y40mm

最小增量

0.1μm

可選配件:

負載單元:Max. 溫度 250
 
荷機Max. 溫度 180

冷卻架

控溫范-30℃~100

脂包埋品的品架

脂包埋品的品架

定制品架

可根據要求設計定制品架

 

可選測試:

表面測試

壓頭的表面廓特征。 
 
用于
量材料表面的粗糙度。

試驗

性模量 E'性模量 E"和耗系數的方法。
 
在最大
負載下施加小振
 
此外,玻璃化
轉變溫度 (Tg) 可以通熱階估。

化溫度

是一種通使壓頭品上的壓頭接觸恒定負載,同支架升高溫度來化溫度的方法。

水下測試

硬度測試可在水中行。

微粒抗強度測試
 
限高元)

是用連續載荷的平面壓頭測粒的斷裂強度/形強度的方法。

測試
 
負載單元)

粒強度測試的附加功能,在壓縮時測粒的阻。

 

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