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O/F培養(yǎng)基(HLGB)

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  • 所在地 上海市

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更新時間:2018-06-14 09:08:45瀏覽次數(shù):278

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

產(chǎn)品簡介

供貨周期 現(xiàn)貨 規(guī)格 250
貨號 YS-PYJ0149 主要用途 科研實(shí)驗(yàn)
O/F培養(yǎng)基(HLGB)我司提供的培養(yǎng)基為現(xiàn)貨供應(yīng),所銷產(chǎn)品嚴(yán)格按照相關(guān),質(zhì)量有保證,能保證用戶理想的實(shí)驗(yàn)效果,如有質(zhì)量問題,我司可包退換,大批量訂購可享受優(yōu)惠價格!

詳細(xì)介紹

O/F培養(yǎng)基(HLGB)
中文名稱:O/F培養(yǎng)基(HLGB)
英文名稱:O/F Medium
包裝規(guī)格:250
產(chǎn)品用途:用于鑒別弧菌葡萄糖代謝類型(發(fā)酵型或氧化型)(SN標(biāo)準(zhǔn))
產(chǎn)品售價:本頁面展示的價格僅為參考價,并不代表實(shí)時報價,訂購時還請以電詢?yōu)闇?zhǔn)。
O/F培養(yǎng)基(HLGB)注意事項(xiàng) ▎?
1. 請佩戴口罩操作,以避免因培養(yǎng)基粉塵而引起呼吸道系統(tǒng)不適。
2. 干粉培養(yǎng)基容易吸潮結(jié)塊,使用后應(yīng)立即旋緊瓶蓋。
3. 平板厚度過薄容易造成瓊脂水分保持性下降,開裂,自制平板時需注意培養(yǎng)基的厚度;15-20mL(Φ90mm)體積培養(yǎng)基,平板培養(yǎng)基厚度至少為2mm。
儲存條件及保質(zhì)期 ▎?脫水干粉培養(yǎng)基的貯存期一般為二年,需貯存于避光和陰涼干燥的環(huán)境之下,使用后請立即旋緊瓶蓋。
廢物處理 ▎?檢測之后帶菌平板置于121℃下高壓滅菌30分鐘。
* 李氏菌增菌肉湯(LB1,LB2)基礎(chǔ)     250添加奈啶酮酸,吖啶黃素,即為LB1,LB2,用于李氏菌二步增菌(GB標(biāo)準(zhǔn))

* 萘啶酮酸 4.5mg*5添加于225ml HB4160中制成LB1

* 吖啶黃素 2.7mg*5添加于225ml HB4160中制成LB1

* 七葉苷培養(yǎng)基    10生化試驗(yàn)培養(yǎng)基,用于細(xì)菌七葉苷利用試驗(yàn)(SN標(biāo)準(zhǔn))

* 半固體動力培養(yǎng)基   250用于動力觀察,菌種保存,H抗原位相變異試驗(yàn)等(SN標(biāo)準(zhǔn))

* 牛津瓊脂(OXA)基礎(chǔ)    250用于單增李氏菌的選擇性分離
O/F培養(yǎng)基(HLGB)角蛋白83 多克隆抗體KRT83 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

角蛋白84 多克隆抗體KRT84 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

角蛋白85 多克隆抗體KRT85 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

角蛋白86 多克隆抗體KRT86 Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

角蛋白33A 多克隆抗體KT33A Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul

角蛋白33B 多克隆抗體KT33B Polyclonal Antibody700/30ul#1540/100ul#2520/200ul
O/F培養(yǎng)基(HLGB)斜面培養(yǎng)基的擺放裝置:
無菌檢驗(yàn)常常會批量使用斜面培養(yǎng)基,其制作方法是將液態(tài)的培養(yǎng)基置于試管中,將試管傾斜擺放直至培養(yǎng)基凝固。目前,試管的擺放方式是將其依靠在一定高度的臨時依靠物上,這種擺放方式存在易滑落和左右滾動,且難以找到統(tǒng)一高度依靠物的弊端。
針對以上不足,可以參考一種擺放方案。斜面培養(yǎng)基的擺放裝置,包括X向連接支架、Υ向連接支架、Ζ向連接支架、擋板以及平板;Υ向連接支架為兩個,兩個Υ向連接支架分別設(shè)置于X向連接支架的兩端,Ζ向連接支架垂直設(shè)置于X向連接支架上,擋板為兩塊,分別設(shè)置于X向連接支架的兩側(cè),并分別與Υ向連接支架的兩端部連接,平板設(shè)置于Ζ向連接支架的頂部;平板上與擋板相對應(yīng)的兩側(cè)邊上分別設(shè)有多個半圓形缺口 ;擋板與半圓形缺口之間形成傾斜設(shè)置空間。

 

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