1.材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。
2.物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
3. 生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。
4. 對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
5.醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫用冷帽、降溫毯等。
6.對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
主要用途：
1、 對旋轉蒸發儀、光化學反應儀光源部分進行低溫冷卻
2、 對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制
3、 對分光光度計的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
4、 對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制
5、 對激光加工機的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
6、 對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制
7、 對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制
8、 對工業用機械裝置的發熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
9、 對電泳儀、粘度計、醫用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制
10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵、微波治療機進行低溫冷卻和溫度控制
主要性能：
1、密閉型循環：冷卻盤管、保溫用套管等密閉回路的循環裝置。
2、節省空間：設計緊湊、有桌面臺式型、有受實驗臺高度限制的立式型。
3、水冷式冷凍機：配備水冷式冷凍機，因為不采用風扇排熱，對環境影響小。適合在沒有空調、換氣設備的室內使用，也適合在無塵室使用。制冷系統具有延時、過熱、過電流多種保護裝置。均為進口原裝高品質器件，保證可靠性和使用壽命。
4、配備進口高壓泵：配管尺寸較長，可平穩的進行長距離循環、冷卻或恒溫機外實驗容器或建立第二恒溫場。
5、高密度耐腐蝕材料：可循環純水的循環泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關鍵接口都采用不銹鋼（SUS304）制造。
6、循環介質類型：硅油、水、鹽水、純酒精等實驗室常用循環介質。
7、微電腦控制：配置微電腦，能夠進行高精度的控制，具備各種安全性能;所有操作均在微機智能控制儀上按動觸摸軟鍵完成，操作簡單、直觀。
8、P.I.D.控制：極力排除影響溫度調節精度的外部因素，減小誤差。
9、室外設置型：裝置可以設置在室外，適合工廠、研究所不能設置在室內的情況使用。
10、節能：配備進口變頻壓縮機，根據循環負荷量和冷凍機的電機功率做變頻調節。
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