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怎樣子做才能提高安捷倫ICP-MS系列的電離效率了，我想大家應該都很關心這個問題。接下來我們就告訴大家四種方法來提高電離效率。
方法一：
1.采用頻率為27.12MHz的發生器來提高電離效率
ICP采用27.12MHz頻率作為振源通過兩級功率放大，就可得到27.12MHz，2.0Kw的輸出信號來匹配網絡和同軸電纜傳輸到負載線圈上從而使得發生器頻率穩定度高，耦合效率好，易于自動控制功率輸出，始終保證等離子體的功率恒定不變。因此27.12MHz的頻率適合生產ICP也易于控制氣體和液體燃料以及霧化氣和助燃空氣的流量從而能更好的控制電離效率。
方法二：
2. 采用小的進樣流量(0.4mL/min)來提高電離效率
普通的ICPMS進樣量是1-1.5ml/min,然而對于靈敏度*的安捷倫來說進樣量不能太大，因為樣品在待測元素濃度只有1ppt時，采用少的進樣量0.4ml/min時，也相當于每秒有1千萬個原子進入儀器，但是終能到達檢測器的離子數只有10-1000個之間，如果采用的進樣量是1-1.5ml/min，那么將不止每秒有1千萬個原子進入儀器，而終能到達檢測器的離子數確還是只有10-1000個之間。所以說用加大進樣量來提高電離效率,其結果只能造成儀器被污染得更厲害,基體帶進來的干擾也越多，所以對于安捷倫來說只能采用小的進樣量(0.4mL/min)來提高電離效率才能得到的結果。
方法三：
3.采用半導體控溫裝置來提高電離效率
采用半導體控溫裝置來控制霧化室的溫度從而達到除去大液滴，阻止大液滴進入炬管，確保只有小顆粒的氣溶膠可以進入等離子體。如果不采用半導體控溫裝置來控制霧化室的溫度此時大液滴則不能碰撞到霧化室的室壁，也不能由廢液管排出。而是會有大量的大粒徑霧滴進入等離子體干擾了等離子體的穩定性和離子化的效率。所以采用半導體控溫裝置來控制霧化室的溫度,不僅提高了等離子體的穩定性和離子化的效率，進而提高了電離效率。
方法四：
4.采用標準2.5mm的炬管來提高電離效率
炬管的一端深入工作線圈中，工作線圈可以誘導產生用于樣品離子化的等離子體為防止等離子體的高溫將炬管融化(等離子體的溫度可以達到10,000K)，系統向炬管的外層石英管中引入冷卻氣(又稱等離子體氣)，其流量達15L/min。冷卻氣/等離子體氣的主要作用是將等離子體推離炬管內壁，避免炬管融化，同時也為等離子體的形成提供了支持氣。在炬管第二層石英管中引入的是輔助氣，其流量大約為1L/min，其作用是將等離子體推離中心樣品引入管的末端，同時維持等離子體“火焰”。 載氣從炬管的中心管路進入炬管，同時將霧化室內形成的氣溶膠帶入炬管。載氣流路(包括霧化器中引入的載氣和混合氣)的流量要足夠大，保證可以在等離子體中心吹出一個“孔”，以將樣品引入到等離子體中，實現樣品的離子化；但載氣流量又不能太大，以免降低氣溶膠解離和離子化效率，并避免降低等離子體溫度。所以使用標準的2.5mm炬管，載氣流速為1.2L/min，能達到電離效率的zui高值。