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產品簡介
詳細介紹
AR-Meta，專業化的“超表面光場檢測系統”
μm 級器件尺寸 / 1.7μm 近紅外拓展 / 光場 + 焦距 + 成像分辨率
AR-Meta 超表面光場檢測系統 采用 消除像差 的光學設計，*以商用設備實現 μm 量級超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場測量，并提供焦距、成像分辨率、點擴散函數、調制傳遞函數、斯特列爾比、數值孔徑、偏折效率等關鍵測量指標分析。結合豐富的偏振器件，為您帶來一款“專業化”的超表面與超透鏡光場檢測平臺。
 AR-Meta 超表面光場檢測系統 |
典型應用領域：
超表面器件 超表面器件在空間上具有復雜的光場調控能力，需要在微米尺度下掃描光場。
超透鏡 受限于設計規模和微納加工能力，超透鏡難以實現較大口徑。面向折射型透鏡的傳統檢測工具已無法滿足該類器件的光學性質表征需求，針對超透鏡特點設計的檢測平臺應運而生。
微透鏡 口徑在數百微米以下的微透鏡及陣列，在集成光學中已開始發揮重要作用，受限于透鏡口徑，當前缺乏商用化的微透鏡光學指標檢測平臺。
AR-Meta 超表面光場檢測 在以上領域的應用得益于如下幾個特點： 1 μm 量級測量區域 AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺，配合消除像差的準直及成像光路，完美實現 μm 量級超表面器件光場檢測； 2 超過 7 項關鍵指標 圍繞超表面器件及超透鏡領域的研究熱點，AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點擴散函數 (PSF)、調制傳遞函數 (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過 7 項衡量器件光學性質的關鍵指標； 3 寬 380~1700nm 譜段 AR-Meta 內部支持兩個譜段：可見和近紅外 (含 850nm,1310nm,1550nm)，并通過高穩定切換部件實現了兩者的切換，與之匹配的是可以通過外部接口，引入多種波長的激光光源； 4 反射 + 透射 AR-Meta 具有獨立的反射與透射兩套光路，能夠輕松實現反射情況下 0~20mm 縱深，透射情況下 0~2mm 縱深的光場掃描； 5 工程化設計 AR-Meta 在設計中充分考慮了光路切換的穩定性，實現了控制的自動化，保障良好用戶體驗； 6 除此之外，內秉的線偏振與圓偏振器件，多種濾色片的選擇等，使 AR-Meta 的應用覆蓋了超表面檢測所需要的多數場合。
了解更多內容： 如何在顯微尺度測量不同角度的光譜？
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