詳細介紹
Hei-VAP Industrial大型旋轉蒸發儀的安全防護罩可確保設備及操作環境安全??蓪崿F單人操作,在幾秒鐘內即可完成更換并輕松操作設備。
高等級安全標準
•EASYLOCK蒸發瓶鎖緊和退瓶裝置可讓蒸發瓶更換簡單、安全
•緊急停止按鈕可讓設備瞬間停止工作
•操作面板不僅可顯示及控制所有參數,還具有5個關鍵安全提示功能,經操作人員確認后方可繼續運行
•水位調節系統,可防止浴液溢出加熱鍋
•設備運行中,如果打開安全防護蓋,安全傳感器會停止設備旋轉
•如果加熱鍋意外升溫,溫度傳感器會立即將設備斷電
•過壓導致玻璃件破損或真空管路泄露時,設備自動關閉
•接收裝置不僅可保護接收瓶,同時為接收瓶提供出色的支撐
•覆蓋在主要玻璃組件外的冷凝器金屬外殼上的透明抗沖擊PMMA門提升用戶安全性
超級簡單易用
•直觀的觸摸屏,易于操作。玻璃面板具有耐化學腐蝕性和易清潔性
•EASYLOCK蒸發瓶鎖緊和退瓶裝置可快速方便地更換蒸發瓶
•內置照明系統,易于觀察
•集成的加熱線圈確保fang便、快速地清洗加熱鍋
•接收裝置可防止玻璃套件破損,同時還為接收瓶提供獨立支撐以便快速移除接收瓶
•*的自動蒸發瓶支撐系統令單人更換蒸發瓶成為現實
•自動補液系統可避免加熱鍋干燒
•回收瓶標配有加強的底部排水閥,并具有框架支撐保護
•內置鼓風機,避免蒸汽在防護罩內堆積,方便觀察
•自動計時器可在達到預設時間后關閉設備
•可選Distimatic自動蒸餾模塊,從而實現連續且無人值守的運行
•可選帶輪底座,便于移動,同時為真空泵,玻璃件,溶劑或配件提供存儲空間
•可儲存多達250個預編程程序,多可設置999個梯度步驟,極大地節約了操作時間
降低使用成本
•水/油兩用加熱鍋,允許gao設定溫度為180℃
•利用加熱鍋的預熱選型,您不會浪費任何處理時間
•加熱鍋補液充系統允許您隨時離開旋轉蒸發儀,并將干燒或過熱的風險降至零
•AUTOaccurate-蒸餾進行到設定狀態后,自動關閉真空泵,停止加熱和旋轉,并排空,給您一個半自動的方案,充分節約實驗成本
•使用自動模塊DistimaticIndustrial可實現持續蒸餾操作,是一種經濟實惠且更靈活地替代50升或100升大型旋轉蒸發儀的方案
•無隱性使用成本:所有真空組件都是標配、包括真空閥、真空控制器、真空傳感器和蒸汽溫度傳感器
•采用業界的防漏真空密封技術,可降低能耗,提高處理量
•極限真空值可達1mbar,真空泄漏率低于1mbar/min
實驗室大型旋轉蒸發儀Heidolph Hei-VAP Industri性能特點
•帶有背光的大型觸摸屏控制面板,可顯示所有工藝參數、可設定梯度程序
•接收裝置和額外的PMMA門可防止玻璃件破損帶來的意外傷害
•全透明PMMA材質安全門提升系統安全性
•防霧PMMA安全玻璃及金屬防護結構為使用者提供出色安全保證
•操作過程中蒸發瓶照明系統讓用戶隨時可以觀察蒸餾進程
•GMP認證可以提供:安裝認證(IQ)和運行認證(OQ)
•水/油兩用加熱鍋可用水或其他浴液,gao加熱溫度可達180℃
•可選配移動底座,它還可以作為小儲物區存放真空泵,玻璃件,有機溶劑和附件
•標配有集成的補液系統,溢流口及底部放液閥
Hei-VAP Industrial大型旋轉蒸發儀技術參數
參數 | Hei-VAP大型旋轉蒸發儀 |
旋轉速度(rpm) | 6-160 |
轉速設置 | 數字 |
加熱鍋升降 | 電動升降 |
高度調整速度(mm/s) | 45 |
高度調整范圍(mm) | 180 |
驅動 | EC馬達 |
加熱鍋功率(W) | 4.000 |
加熱鍋溫度范圍(℃) | 20-180 |
加熱鍋控溫精度(℃) | ±1 |
過溫斷電保護(℃) | 110(水)/2110(油) |
加熱鍋溫度設置 | 數字 |
加熱鍋自動控制 | 微處理器 |
加熱鍋材質 | V4A(1.4404) |
加熱鍋直徑(mm) | 400 |
加熱鍋容量(L) | 24(水)/22(油) |
加熱鍋水位控制 | 自動液位檢測和自動充液 |
蒸汽溫度顯示(需相關附件) | 數字溫度傳感器 |
蒸汽溫度顯示范圍(℃) | 0-200(精度0.1℃) |
真空控制器 | 是 |
定時器 | 是 |
真空控制程序SETpressure** | 是 |
真空控制程序AUTOaccurate** (需要AUTOaccurate-sensor) | 是 |
可編程梯度 | 是 |
供電功率(W) | 4.600 |
重量(不含玻璃件)(kg) | 大約120 |
尺寸(l×w×h)(mm) | 970×690×1.600 |
保護等級(DIN EN 60529) | IP 20 |
工作環境 | 5-31℃時,相對濕度80%;32-40℃時,線性下降,gao 50%相對濕度 |
*△T=水浴鍋溫度和沸點溫度差
**僅與真空系統結合使用