CVD石英藍(lán)寶石基底PdSe2/PtSe2二硒化鈀薄膜
定制基底PtSe2
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西安齊岳生物供應(yīng)CVD-WS2-WSe2面內(nèi)異質(zhì)結(jié)、CVD-多層BN薄膜、CVD-MOS2 連續(xù)薄膜、CVD-MoS2少層薄膜、CVD-單層BN薄膜、MOS2/WS2異質(zhì)結(jié)、MOS2/WSe2異質(zhì)結(jié)、CVD-三維鎳基BN泡沫、M1相二氧化釩VO2單晶薄膜、三氧化二釩V2O3單晶薄膜、機械剝離單層MoS2、機械剝離單層WS2、高導(dǎo)電石墨烯 (8-15um)
CVD石英藍(lán)寶石基底PdSe2/PtSe2二硒化鈀薄膜
產(chǎn)品描述:
塊狀PdSe2(鈀二硒化物)具有30mev的帶隙,增加到1.43ev的間接帶隙(理論上)。與其他tmdc相比,PdSe2具有一種不尋常的結(jié)構(gòu):Pd原子與四個Se原子配位,形成一個正方形的骨架晶格。近的研究還表明,PdSe2單分子膜立即發(fā)生PdSe2到Pd2Se3的晶體轉(zhuǎn)變。由于鈀原子的大量存在,PdSe2在理論和實驗上都被證明是具有催化活性的材料,其基礎(chǔ)研究仍處于起步階段。
生長方法的重要性>通量區(qū)還是CVT生長方法?層狀晶體中鹵化物和點缺陷的污染是其電子遷移率降低、e-h復(fù)合不良、低PL發(fā)射和低光吸收的*的原因。磁通區(qū)是一種用于合成真正半導(dǎo)體級vdW晶體的無鹵化物。該方法與化學(xué)氣相傳輸(CVT)有以下區(qū)別:CVT是一種(約2周)生長的方法,但結(jié)晶質(zhì)量差,缺陷濃度達(dá)1E11~1e12cm-2。相比之下,熔劑法需要較長的生長時間(約3個月),但可以緩慢結(jié)晶以獲得的原子結(jié)構(gòu),以及缺陷濃度低1E9-1e10cm-2的無雜質(zhì)晶體生長。因此,如果你的研究需要真正的晶體用于光電子、掃描隧道顯微鏡、光譜學(xué)和其他依賴于無缺陷晶體的項目,那么通量區(qū)生長是你的選擇。如果您需要催化材料,缺陷的存在通常會有所幫助。在這種情況下,CVT生長晶體更適合催化。
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基于藍(lán)寶石襯底的全區(qū)域覆蓋的單層二硒化錸
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基于藍(lán)寶石襯底的全區(qū)域覆蓋的單層二硫化鉬
Full Area Coverage Monolayer MoS2 on c-cut Sapphire
溫馨提醒:用于科研哦(zhn2020.05.14)