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可變轉速控制器：50-500 rpm；
壓板尺寸：12 inch (305mm)；
2)Auto 6型拋光頭：
樣品容量：6個樣品，Z大直徑到2 inch (50mm)；
樣品放置：單個氣體放置，可變壓力0-75 psi 0-6 bar，調節器控制壓力；
樣品旋轉：固定轉速120 rpm，2.5hp/0.18kw AC馬達；
產品簡介
詳細介紹
如需更詳細資料或報價請資詢：
Web: www.eastco-hk。。ｃｏｍ
Labpol 12型自動研磨/拋光儀
1）馬達驅動：高扭矩系統，0.6hp/0.44kw直流馬達；2）可變轉速控制器：50-500 rpm；3）可接受一個可用于6個樣品的樣品架；
進口Labpol 12型自動研磨/拋光儀
●一般特點：
1）設計*進，可輸入所須參數進行編程，保存可供以后使用；
2）臺面上帶有旋轉盤，由強大的DC馬達和皮帶驅動，足夠的扭矩力可同時研磨6個樣品。平板直徑為12"，轉速在50 rpm~ 500 rpm之間可調，可順時針或逆時針方向運動；
3）拋光頭可接受一個可用于6個樣品的樣品架。樣品尺寸zui高可達2"。樣品架由馬達驅動，以一恒定速度轉動。1個6空氣柱被放在旋轉樣品架的周圍。每個空氣柱的活動活塞可擴展以提供氣壓，并放在每個樣品點的中心位置。這樣每個樣品被單獨放置。樣品的水平狀態并不重要，套管可用于滿足特別的樣品直徑，因此可減少樣品在拋光時的傾斜趨勢。可研磨/拋光1個或zui多6個樣品；
4）研磨/拋光頭的旋轉能清楚觀察到，因此能輕松更換壓板，可滿足人工操作或研磨；
5）如采用Auto 6型拋光頭則不會這麼簡單，因為系統由邏輯控制器草，須通過鍵盤輸入數據來操作。程序可通過以下參數來改變；
壓盤轉速；
拋光或研磨時間；
水（用于研磨）；
壓盤旋轉方向CW順時/CCW逆時；
滴液單元（用于拋光）開/關；
輸入參數進行特別編程；
zui多有8個程序可編制和保存，并可連續使用；樣品負載壓力可在5 bar~75psi之間調整；
6）在拋光過程中控制應用（或滴液） 鉆石懸浮液在壓板上能有效保證拋光的重復性。Auto 6型有出口可用于滴液單元。2種滴液單元可提供，容量分別為2或4種拋光懸浮液。每個懸浮的噴霧頭受壓力激活。它們放在壓板的上面，受電子控制可以一定頻率滴出液體。可選配磁力攪拌器放在每個液體瓶下面，以確保懸浮液攪拌，以防止沉淀；
●技術特點：
1）主機：
馬達驅動：高扭矩系統，0.6hp/0.44kw直流馬達，5:1滑車旋轉；
可變轉速控制器：50-500 rpm；
壓板尺寸：12 inch （305mm）；
2）Auto 6型拋光頭：
樣品容量：6個樣品，zui大直徑到2 inch （50mm）；
樣品放置：單個氣體放置，可變壓力0-75 psi 0-6 bar，調節器控制壓力；
樣品旋轉：固定轉速120 rpm，2.5hp/0.18kw AC馬達；
3）內置分液器：
氣壓系統：包括3個標準的閥門和壓力調節器；
懸浮液數量：3個，在樣品架上；
噴霧嘴：2個可調，在板上；
編程：可通過鍵盤輸入噴霧時間和噴霧的間隔；
4）數據輸出：（可通過操作界面操作，主要的功能為）：
開始工作循環；
可選擇程序1-8；
編輯程序；
手動模式，研磨頭不再使用；
每個程序所設的參數為：壓板運轉方向，壓板轉速，時間，水開/關，分液參數；
zui多儲存8個參數；
5）尺寸WDH：570（670,如上加分液瓶 ）×760×700 mm；
6）重量：50Kg；
●訂購信息：
10400： Labpol 12型自動研磨/拋光機，6個樣品架；
10205： 蓋子 f/EWC10400 Labpol 12 Auto；
10222 ：鋁制壓板，直徑12in. （305mm）；
10214 ：鋁制壓板防護，直徑12in. （305mm）；
11440 ：6個套管，可用于1 in樣品；
11442 ：6個套管，可用于1 1/4 in樣品；
11444 ：6個套管，可用于1 1/2 in樣品；
11445 ：6個套管，可用于2 in樣品；
11125 ：6個套管，可用于25mm樣品；
11130 ：6個套管，可用于30mm樣品；
11140 ：6個套管，可用于40mm樣品；
11150 ：6個套管，可用于50mm樣品；
10402：電子分液器，1個；
11422：磁力攪拌器，1個，可選；
10404：電子分液器，4個；
11424：磁力攪拌器，4個，可選；
Labpol 8-12進口單盤磨拋機
美國EXTEC研磨/拋光機
可改變尺寸系列即可改變底盤尺寸8"/12"
適合安裝8"203mm,250mm或12"305mm
采用可調速0.4HP（0.3KW）馬達及控制器，轉速約50-500rpm，并備有轉速顯示器，
出入水管為可彎曲軟管，接駁口設置在儀器的背面，并備有水開關，可直接將水沖向樣品，能加強潤滑作用，對研磨工序十分有幫助
美國EXTEC單盤研磨拋光機 Labpol 8-12
Labpol 8-12磨拋機為單盤無級調速式研磨、拋光多用機。該機磨拋盤調速范圍為50—500轉/分鐘。該機可實現試樣從粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的整個制樣過程。
可快速更換底盤（8"和12“隨時互換）
技術參數
數字顯示磨拋盤轉速
工作電壓：220V 50HZ
底盤直徑：8" （203mm）, 250mm, 12"（305mm）
電動機：YSS7124、550W
外形尺寸：Width 385mm×Depth 640mm×Height 280mm
重量：70 lbs. （32Kg）
美國EXTEC Labpol Duo 8無級調速式試驗磨拋機
美國EXTEC單盤研磨拋光機 Labpol 8-12 
Labpol 8-12磨拋機為單盤無級調速式研磨、拋光多用機。該機磨拋盤調速范圍為50—500轉/分鐘。該機可實現試樣從粗磨、精磨、粗拋光至精拋光的整個制樣過程。
可快速更換底盤（8"和12“隨時互換）
技術參數
數字顯示磨拋盤轉速
工作電壓：220V 50HZ
底盤直徑：8" （203mm）, 250mm, 12"（305mm）
電動機：YSS7124、550W
外形尺寸：Width 385mm×Depth 640mm×Height 280mm
重量：70 lbs. （32Kg）
美國EXTEC Labpol Duo 8無級調速式試驗磨拋機Polisher/Grinder為雙盤臺式機，適用于對金相試樣進行預磨、研磨和拋光操作。本機通過變頻器調速，可直接獲得50-1000轉/分鐘之間的轉速，從而使本機具更廣泛的應用性，是用戶用來制作金相試樣必*的設備。
本機帶有冷卻裝置，可以在預磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。該機左盤為預磨、研磨盤，右盤為拋光盤。該機不但可以對試樣進行輕磨、粗磨、半精磨、精磨，還可以對試樣進行精密拋光。
本機可以兩個人同時操作使用，是工廠、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。
技術指標：
1.工作電壓 220V 50HZ
2.研磨盤直徑 8" （203mm）
3.拋光盤直徑 8" （203mm）
4.電動機 Variable Speed: 0.6 HP （.44 KW） motor and controller.、
5.外形尺寸 Width 650 mm x Depth 610mm x Height 280mm
6.重量 70 lbs. （32Kg）
美國EXTEC Labpol Duo 8無級調速式試驗磨拋機Polisher/Grinder為雙盤臺式機，適用于對金相試樣進行預磨、研磨和拋光操作。本機通過變頻器調速，可直接獲得50-1000轉/分鐘之間的轉速，從而使本機具更廣泛的應用性，是用戶用來制作金相試樣必*的設備。
本機帶有冷卻裝置，可以在預磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。該機左盤為預磨、研磨盤，右盤為拋光盤。該機不但可以對試樣進行輕磨、粗磨、半精磨、精磨，還可以對試樣進行精密拋光。
本機可以兩個人同時操作使用，是工廠、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。
技術指標：
1.工作電壓 220V 50HZ
2.研磨盤直徑 8" （203mm）
3.拋光盤直徑 8" （203mm）
4.電動機 Variable Speed: 0.6 HP （.44 KW） motor and controller.、
5.外形尺寸 Width 650 mm x Depth 610mm x Height 280mm
6.重量 70 lbs. （32Kg）
Labpol Duo 8-12雙盤磨拋機
Labpol Duo 8-12雙盤磨拋機