自動熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實現全自動、無人值守操作，zui高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率>100℃/min，降溫速率可達300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選。可在爐頂與爐底裝備加熱器，整個熱區的溫度均勻性*。

  美國Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對高純度的優良陶瓷材料進行熱處理，避免了其對傳統石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。 

系統組成：真空腔，金屬熱區，電源，真空泵，可編程控制系統；可定制升級。 

系統的熱區可在多種環境內工作：濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮氣、真空等。加熱體根據不同的工作溫度使用鉬片、鉬網、鎢網等，表面積大，可提高工作區的溫度均勻性。

多種產量、溫度、處理能力可選，滿足您的多種需求。

APF與CPF系列產品特點 

立式真空爐

  THERMAL TECHNOLOGY全自動立式真空爐采用圓柱形加熱體，在低功率下可以控制形成均一的溫度，因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節省能量的同時也可以保護工作環境、加快熱循環速度。熱區設計有助于延長在zui高工作溫度下的壽命。

  立式的APF/CPF爐具采用冷壁設計，具有輻射防護。頂部/底部裝卸與鐘罩升降等批量處理爐可選。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔由液壓驅動升離底盤與爐床，便于裝卸工件與設備。采用的微處理器控制系統，可實現數字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過程中進行實時修改。

  裝完工件，設置程序處理序列后，所有操作*自動，操作完成后系統會發出信號提示。

臥式真空爐

  臥式真空爐采用網狀加熱體，低功率下可以控制形成均一的溫度，因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節省能量的同時也可以保護工作環境、加快熱循環速度。熱區設計有助于延長在zui高工作溫度下的壽命。臥式真空爐zui多可配備6個獨立熱區，可實現*的溫度均勻性。

  臥式的APF/CPF爐具采用冷壁設計，具有輻射防護，均為前部裝卸的批量處理爐。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔前部留有裝料口。采用的微處理器控制系統，可實現數字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過程中進行實時修改。

  裝完工件，設置程序處理序列后，所有操作*自動，操作完成后系統會發出信號提示。