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北京亞科晨旭科技有限公司
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當前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>化合物半導體-工藝設(shè)備>> Activator150SiC和GaN退火及石墨烯生長-快速退火爐

SiC和GaN退火及石墨烯生長-快速退火爐

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Activator150

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 13:21:28瀏覽次數(shù):646次

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產(chǎn)地類別 進口 應用領(lǐng)域 石油,能源,電子
centrotherm Activator 150 高溫爐生產(chǎn)線專為硅-碳化合物(SiC)或鎵-氮化合物(GaN) 設(shè)備的后植入燒結(jié)而設(shè)計開發(fā)。Activator 150 可用于多種類型爐體, 如研發(fā)爐和批量生產(chǎn)爐, 且處理靈活性高。

Centrotherm 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管CLV200,科研專屬

CLV200 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管

I 適用于砫襯底的半導體集成電路的生產(chǎn)

 

是一個獨立的小批量晶圓 生產(chǎn)設(shè)備,能實現(xiàn)各項熱處理工藝,適用于少量生產(chǎn)及 研發(fā)。

工藝反應 腔體及加熱系統(tǒng)有著*的設(shè)計, 升溫至 11 00 攝氏度。由于一爐尺寸較小(一批至多 50 片晶圓), CLV 200 爐管能提供 非常靈活的常壓及低壓工藝,降低顧客研發(fā)費用。

的設(shè)計在高效, 低耗上非常出色, 同時也具備了生產(chǎn)各種半導體器件的工藝靈活性。

E1200臥式熱反應系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品簡介

E1200型臥式熱反應系統(tǒng)是由德國centrotherm公司研制的特為研發(fā)、小批量生產(chǎn)用熱反應系統(tǒng)。具有小體積、高工藝性能等特點

可用作常壓CVD、LPCVD、PECVD、擴散、氧化、退火等工藝過程,以優(yōu)良的品質(zhì)、極小的體積、低成本的特點,特別適合低產(chǎn)量、多工藝適應性加工要求的研發(fā)或小批量生產(chǎn)。

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