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　　二次元影像測量儀光柵尺作為重要的分光器件，其性能直接影響整個系統性能，為更好協助用戶選擇，在此做一簡要介紹。
 

　　1、二次元影像測量儀光柵尺分為刻劃光柵、復制光柵、全息光柵等；
 

　　2、刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂有金屬的表面上機械刻劃而成；
 

　　3、復制光柵是用母光柵復制而成；
 

　　4、典型刻劃光柵和復制光柵的刻槽是三角形；
 

　　5、全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成，全息通常包括正弦刻槽，刻劃光柵具有衍射效率高的特點，全息光柵光譜范圍廣，雜散光低，且可作到高光譜分辨率。
 

　　光柵方程
 

　　反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細的刻槽，一系列平行刻槽的間隔與波長相當，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產生衍射和干涉。對某波長，在大多數方向消失，只在一定的有限方向出現，這些方向確定了衍射級次。
 

　　光柵刻槽垂直輻射入射平面，輻射與光柵法線入射角為α，衍射角為β，衍射級次為m，d為刻槽間距，在下述條件下得到干涉的大值：
 

　　mλ=d(sinα+sinβ)
 

　　定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半，即φ=(α-β)/2；θ為相對與零級光譜位置的光柵角，即θ=(α+β)/2,得到更方便的光柵方程：
 

　　mλ=2dcosφsinθ
 

　　從該光柵方程可看出：
 

　　對一給定方向β，可以有幾個波長與級次m相對應λ滿足光柵方程。比如600nm的一級輻射和300nm的二級輻射、200nm的三級輻射有相同的衍射角。
 

　　衍射級次m可正可負。
 

　　對相同級次的多波長在不同的β分布開。
 

　　含多波長的輻射方向固定，旋轉光柵，改變α，則在α+β不變的方向得到不同的波長。
 

　　如何選擇二次元影像測量儀光柵尺
 

　　選擇光柵尺主要考慮如下因素：
 

　　刻槽密度G=1/D，D是考槽間隔，單位為MM。
 

　　閃耀波長
 

　　閃耀波長為光柵尺大衍射效率點，因此選擇光柵時應盡量選擇閃耀波長在實際應用在可見光范圍，可選擇閃耀波長為500nm。