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產(chǎn)品簡介
脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD：脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。
詳細(xì)介紹
Neocera Pioneer 系列 脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD— 基于經(jīng)驗(yàn)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)
Neocera 利用PLD 開展了深入廣泛的研究，建立了獲得超薄薄膜質(zhì)量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復(fù)雜氧化物薄膜。
這些思考已經(jīng)應(yīng)用于Pioneer 系統(tǒng)的設(shè)計(jì)之中。
• 很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對(duì)高的氧壓（>100 Torr）下冷卻可獲得更高的質(zhì)量。所有Pioneer系統(tǒng)都具備此功能（壓力范圍可從額定初始?jí)簭?qiáng)到大氣壓）。這也有益于納米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的大均勻性，同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。更大的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。
• 為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵，消除油的回流對(duì)薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無油泵系統(tǒng)。
• 我們的研究表明靶和基片的距離是獲得超薄薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)可以控制靶材和基片的距離，以達(dá)到更好的沉積條件。
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有*功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數(shù)字" 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
• Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)
• Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是研發(fā)領(lǐng)域?yàn)閺V泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
• Neocera 不僅為客戶提供基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案
脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD技術(shù)指標(biāo)：
Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120A | |
大wafer 直徑 | 8" | 6" | 2" |
大靶材數(shù)量 | 6 個(gè)1" 或3 個(gè)2" | 6 個(gè)1" 或3 個(gè)2" | 6 個(gè)1" 或3 個(gè)2" |
壓力(Torr) | 5*10-8 | 5*10-9 | 5*10-9 |
真空室直徑 | 24" | 18" | 12" |
基片加熱器 | 360°旋轉(zhuǎn) | 360°旋轉(zhuǎn) | 360°旋轉(zhuǎn) |
高樣品溫度 | 850 ℃ | 850 ℃ | 950 ℃ |
Turbo 泵抽速* （liters/sec） | 700 軟件控制 | 400 軟件控制 | 260 軟件控制 |
計(jì)算機(jī)控制 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋轉(zhuǎn) | 包括 | 包括 | 選件 |
基片預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | 選件 |
掃描激光束系統(tǒng) | 包括 | 選件 | - |
靶預(yù)真空室 | 包括 | 選件 | - |
IBAD 離子束輔助沉積 | 選件 | 選件 | 選件 |
CCS 連續(xù)組成擴(kuò)展 | 選件 | 選件 | - |
高壓RHEED | 選件 | 選件 | 選件 |
520 liters/sec 泵 | N/A | 選件 | - |
... ... |
• 作為完整PLD 實(shí)驗(yàn)室解決方案供應(yīng)商，我們還可提供：248nm 激光器（準(zhǔn)分子、固體等），激光氣體柜，激光器和光學(xué)器件，以及光學(xué)器件等。
• 帶* 的項(xiàng)目均可客戶化。