作為本次活動主持，會議伊始，她表示，材料聯合體保持著國際開放合作的態度，希望能與梅特勒托利多等國際企業一道積極推動國際國內材料、設備及零部件等企業友好進行產業與技術交流。

半導體材料是下游應用的基石，其性能表現直接關系到下游的發展質量。因此，先進的表征與分析檢測技術對產品良率至關重要。

鄧桂鳳女士在會上致辭，她表示，本次活動搭載集成電路材料創新聯合體，與行業人員共同探討集成電路材料檢測技術。梅特勒托利多將帶來半導體材料生產、研發的系列技術解決方案。

劉超先生在報告環節為我們帶來了主題演講分享——“半導體產業鏈智能稱重應用”。劉總指出， 生產計量稱重對半導體材料制作進行精準控制，是實現材料產品良率最大化的重要工具。例如濕電子化學品工藝過程中，精餾和過濾工藝，原料存儲計量、過程料位計量、包裝計量及復核、貿易結算以及后期的混配工藝和配料管理應用中都需要稱重工具支撐，確保最終產品的質量和工藝表現穩定性。

鄒閱超博士分享了上海集材院在光刻膠及濕電子化學品檢測技術能力。上海集材院擁有ICPMS、GPC、NMR、FTIR、陰離子IC等多臺材料表征設備，并且擁有十級、百級、萬級潔凈室，可針對各類光刻膠、濕電子化學品等多種材料作較為系統的理化性能分析，包括元素分析、構造解析、色譜分析、熱分析等。在高純材料方面，針對金雜、顆粒、陰離子等高度關注項，集材院正探索出一套更低檢出限、更高靈敏度、更穩定可靠的檢測方法，并嚴格規范操作標準、材料使用。

汪正教授帶來關于“等離子體質譜應用于高純半導體材料分析”的主題演講。汪教授指出半導體制程中50%的廢棄硅片由于所用試劑及材料中的痕量污染，半導體行業關注的元素中，堿金屬、堿土金屬可能引起元器件漏電，過度元素和重金屬會縮短元器件壽命，滲透元素影響電子和空穴的數量。ICP-MS幫助材料廠商有效檢測高純材料金屬雜質含量。最后，他還介紹了LA-ICP-MS雜質元素原位定量分析方法研究在碳化硅等材料的應用。

馬珺瑛女士發表“在線檢測技術在半導體材料生產的新應用”的主題演講。馬老師指出，隨著半導體進程的發展，IC制造對濕電子化學品污染控制提出了更高的要求，梅特勒托利多6000TOCi總有機碳分析儀，打斷了非離子有機物（不導電）的化學鍵，將其氧化成為可導電的物質，從而能夠進行快速而連續地測量，有效在線監測有機物污染情況，相比其他方法，具有更低的檢測限。

潘濤先生帶來” 原子力顯微鏡在半導體FA領域應用”的主題演講。潘總表示，原子力顯微鏡（AFM）可以在非真空態實現亞納米級的分辨率，也可用于測量非導電樣品。AFM在半導體器件失效分析中具有重要應用，它可以提供高分辨率的表面形貌和物理特性信息，例如粗糙度，關鍵尺寸、晶圓表面缺陷、測量 STI（淺溝槽隔離）的深度、器件的電學失效分析、互連線的剖面輪廓和光掩膜版修復等幫助確定失效的原因和位置。