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EDWARDS發布用于LED和化合物半導體 制造的新型真空泵
閱讀：4231 發布時間：2014-1-20核心提示：的高精真空設備和尾氣處理系統制造商及相應增值服務供應商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵，新設備經過優化，適用于LED制造中使用的MOCVD工藝，以及在柵堆疊(gate stack)中使用III-V材料的化合物半導體制造工藝。
新型iXH645H干泵在嚴苛的制造環境中僅需zui少維護并實現正常運行時間zui大化
英國西薩塞克斯郡，克勞雷(2012年7月3日)的高精真空設備和尾氣處理系統制造商及相應增值服務供應商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵，新設備經過優化，適用于LED制造中使用的MOCVD工藝，以及在柵堆疊(gate stack)中使用III-V材料的化合物半導體制造工藝。請參觀Edwards公司在InterSolar展會和SEMICON/West展會的5351號展臺，以便了解有關iXH系列的更多信息。上述兩個展會將于2012年7月10-12日在美國加利福尼亞州舊金山舉辦。
iXH645H提供了非常高的氣流量，并能夠在一代LED制造設備所需的高負載下連續工作。iXH系列干泵采用*的技術，zui大限度地減少了維護需求，并實現正常運行時間zui大化，有助于降低成本。
Edwards公司LED市場邵偉稱：“iXH系列干泵的新成員是設計用于滿足兩個快速發展的高技術制造細分市場的需求。由于具備出色的照明效率，LED照明產品逐漸被視為白熾燈照明的環保替代選擇，我們看到，中國、韓國、日本和英國zui近通過立法，將逐步淘汰傳統的大功率照明產品。”
邵偉補充道：“同時，在化合物半導體制造中使用III-V材料，正在推動摩爾定律(Moore’s Law)延續到下一代設計節點。”
LED和化合物半導體制造工藝通常使用大流量氕氣和高腐蝕性氨氣。iXH645H業已進行設計優化以滿足這些要求，具有出色的氫氣抽空性能并采用耐腐蝕設計，包括一個保護泵密封物的氮氣吹掃屏障（purge barrier）。XH645泵具有高溫工作能力，有助于防止可能出現的磷化合物冷凝。另外，該泵*的油潤滑和密封技術省去了定期保養需求，同時其散熱和電機設計可以防止出現過熱、電機過載或工作區域受限等問題。iXH645H泵的優化溫度控制系統確保泵在約30分鐘啟動時間內為工藝做好準備。