HCAM-200V適用高電壓高頻材料的功
華測新品高真空退火爐研發成功
華測儀器通過多年研究開發了一種可實現,高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。可實現寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染。可在高真空, 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐,是目前理想的一種真高空退火爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射退火爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講,都能節省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系,可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現全溫度控制操作!