目錄:鄭州歐諾儀器有限公司>>HW.SY11-KP水浴鍋>> HW.SY11-KP4一列四孔水浴鍋控溫
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
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一列四孔水浴鍋控溫：HW.SY11-KP4適用范圍：本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學(xué)品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術(shù)器械進行煮沸消之用
一列四孔水浴鍋控溫適用范圍
本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學(xué)品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術(shù)器械進行煮沸消之用。
技術(shù)參數(shù)
型號：HW.SY11-KP4（一列四孔）
規(guī)格：智能
功率：1000W
控溫范圍：室溫+5℃～99.9℃
水溫波動性、水溫均勻性：≤±0.5℃
水槽尺寸（mm）：（600×180×90）
特點
產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板材，溫控系統(tǒng)采用微機PID智能控制，感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)
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