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產品簡介
詳細介紹
- 于電鍍槽液中光亮劑和抑制劑的分析；
- 適用于酸銅槽、錫鉛槽、錫槽、堿性鋅槽液的測定
- 電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數來表示并打印出來。這意味著可以準確的調節添加劑濃度。保證了操作的連續性和無干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業所接受。其他方法，如經典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質量的評估而不能測定添加劑濃度。
- 一機多用，選配MME電極，即成為一臺自動伏安極譜儀，分析多種重金屬離子；
- 使用結構簡單、性價比好的旋轉鉑盤電極。在每次測定前，電極需要進行電化學預處理，這已在方法中設置好、并*自動重復直至測定值穩定。
- 采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。
- 內置多個大型電鍍液生產廠的分析方法，可直接調用預置的方法，只需要調整少量參數，就可以開始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業*列的企業的鍍液分析。可以上網下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡報（AN），其中有更深入的應用方法。
主要技術參數
| zui大輸出電流 | ±8 mA |
| zui大輸出電位 | ±12 V |
| 電位范圍 | ±5 V |
| 電位掃速 | 1mV/S – 3V/S (分辨率1 mV)1mV/S – 35V/S (分辨率10 mV) |
| 電流測量 | 10nA – 10mA 七個范圍 |
| 標準測量模式 | DP，NP，DC，SQW，AC1，AC2，CV，PSA，CCPSA，CVS，CPVS |
| 控制方式 | PC機 |
| 電極 | MME，RDE(Au，Pt，Ultra Trace，Ag，GC) |
| 模擬器 | 儀器硬件自檢 |
| 自動化 | 自動進樣、加標、沖洗等 |
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