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WMG-3型（工程光學）智能壓電陶瓷干涉測量實驗儀特點

1.采用鑄鐵基座作為實驗平臺，保證了實驗過程的穩定性。

2.采用了全新的平臺式結構，便于在光路中加入被測物質。

3.開放式的空間，使等厚干涉、等傾干涉及各種條紋的變動做到非常易于調整，很方便地進行各種精密測量。

WMG-3型（工程光學）智能壓電陶瓷干涉測量實驗儀實驗內容

1.觀察點光源非定域干涉（標配He-Ne激光器）

2.觀察等傾干涉條紋（需另配 低壓鈉燈）

3.觀察等厚干涉條紋 （需另配低壓鈉燈）

4.觀察白光干涉現象（需另配 白光源）

5.測定光源或濾光片的波長（標配He-Ne激光器或另配 低壓鈉燈）

6.測定鈉黃雙線波長差（需另配低壓鈉燈）

7.測量透明介質薄片折射率（需自備 透明介質薄片）

8.壓電陶瓷的壓電常數測量及觀察研究壓電陶瓷的振動的頻率響應特性

9.*選配實驗 測量透明氣體折射率（需另配 玻璃氣室）

10.*選配實驗 觀察法布里-珀羅的干涉現象（需另配 法布里—珀羅標準具）

WMG-3型（工程光學）智能壓電陶瓷干涉測量實驗儀配套