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PGS/PGM 200真空紫外光譜儀產品簡介

PGS/PGM 200光譜儀憑借優異的消像差設計，可實現一機兩用，配合單通道探測器作為單色儀，配合CCD使用作為攝譜儀。光路由一片平面光柵和一片超環面鏡組成，為紫外光譜分析優化設計。掠入射光路設計將可探測波長拓展到4nm，與此同時，攝譜儀模式下焦平面垂直于出射光軸，使CCD上接受的光通量zui大化。

PGS/PGM 200真空紫外光譜儀技術特點
    HJY的消像差平面光柵結合超環面鏡，同時兼顧高分辨率和低像差。
    在軸設計，光路易準直。
    出射光直射CCD表面，光通量大。
    只需更換出射狹縫和法蘭，即可實現單色儀和攝譜儀之間的切換，一機兩用。
    支持超高真空10^-9mbar，可接入同步輻射裝置。

典型應用
    X射線光電子能譜
    等離子體物理研究
    高次諧波濾波
    紫外反射
    EUV光源表征

技術指標

三塊標準光柵可選
54401010	1800 gr/mm 光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：4-16.5nm (75-310eV) 或 4-26nm (47-310eV) 出射端口色散：0.4-0.68nm/mm 分辨率：0.2nm
54402010	800 gr/mm光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：10-35 nm (35–124eV) 或10-56nm (22-124eV) 出射端口色散：1.0 – 1.14m/mm 分辨率：0.3nm
54406010	450 gr/mm光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：16-65 nm (7–80eV) 或 16-103nm (12-77eV) 出射端口色散：1.7–2.7m/mm 分辨率：0.5nm
光學設計	HJY平面光柵加超環面鏡光路設計
焦長	200 mm
孔徑	f/17
分辨率	低至0.2nm
波長驅動	步進電機
高真空	10^-6 mbar
真空泵法蘭	DN63 LF
狹縫	測微狹縫
陣列探測器法蘭	DN100CF/ICF152
可選項
狹縫	自動或固定
超高真空	10^-9 mbar，配備DN100CF真空泵法蘭和DN40CF真空計接口