GC-9860-5CPDHID-氦離子氣相色譜儀

GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀適用于高純氣體、超高純氣體及電子工業用氣體中痕量雜質的檢測。該產品以GC-9860氣相色譜儀為載體，配備VALCO公司生產的氦離子化（PDHID）檢測器；采用公司擁有專業技術的四閥五柱的中心切割與反吹技術，其中的所有進樣和切換閥均為VALCO公司生產的帶吹掃保護氣路的六通或十通閥；上述部分與VALCO公司原裝的氦氣純化器、無死體積取樣閥等部件一起組成一套完整的高純氣體分析解決方案。
高純氣體的分析是一個復雜的過程，不僅需要高靈敏的檢測器，還要考慮樣品本身的特性及其背景，如吸附、取樣及分析過程中是否有空氣混入、系統的密閉性、系統的死體積等環節，公司總結了高純氣體分析過程中的技術難點，并給出了所有難點的解決措施，使GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀成為guo內zui專業的高純氣體分析系統，很好的完成了氣體中微量雜質，特別是ppb級的雜質的分析。

 GC-9860-5CPDHID-氦離子氣相色譜儀

產品的特點與技術要求:

1.氣體行業專業色譜技術成套解決方案

2.采用VICI公司Valco帶吹掃型十通與六通切換閥控制氣路

3.應用氣體分離專用色譜柱分離預切再分離技術

4.采用本公司zhuan利技術的可分離與嵌入式單體控溫柱爐

5.工藝流程采用多路精密零死體專用閥控制多維色譜分離柱流量

6.分析流程全部采用Valco公司316不銹鋼管路與專用鍍金接頭

7.核心靈敏部件采用Valco公司PDHID脈沖氦離子檢測器

8.成套專業化的數字與全中文反控氣相色譜儀

中心切割與反吹系統

GC-9860-5CPDHID氦離子化氣相色譜儀采用多閥多柱的中心切割與反吹系統，該系統由多個吹掃型十通閥及多根色譜柱聯合組成，通過工作站設置的時間程序自動控制其進樣、切換、切割與反吹等過程，完成包括高純氮、高純氫、高純氧、

高純氦、高純二氧化碳、高純氬、氪氣、氙氣、氖氣等高純氣體以及硅烷等電子工業用氣體中痕量雜質的檢測：
VALCO吹掃型十通閥
GC-9860-PDHID氦離子化氣相色譜儀所配備的均為yuan裝進口VALCO生產的
經特殊加工的色譜柱技術

杜絕氧吸附

氣體全分析流程：四閥五柱

HP-2氦氣純化器：

可純化氣體：He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn 、NO、NH3、CF4等

殘留濃度：≤10ppb

外置式單氣路恒溫柱箱

◆單氣路,箱爐可獨立控溫與恒溫;

◆加熱塊與柱爐體采用可分離與嵌入式技術;安裝與拆卸實用方便;

◆爐體與外箱盒設計分體, 安裝色譜柱, 分離與嵌入加熱塊,填裝保溫棉材等都人性化設計.

VALCO脈沖氦離子檢測器

◆PDHID是利用氦中穩定的，低功率脈沖放電作電離源，使被測組分電離產生信號。

PDHID是非放射性檢測器，對所有物質均有高靈敏度的正響應。

◆非放射性檢測器，使用安全

◆檢測靈敏度最高，氣體中雜質的最小檢測濃度達5ppb

色譜分析流程圖

1.9分析過程

1. 如高純N2通過程序設定，樣品通過閥1定量管定量進入預柱1/8"*2mHayesepQ 1，預柱很好的把O2中CO2和H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO組分預分離，待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO 流出預柱，自動切換閥1。CO2直接通過閥1放空.

2. 閥3一開始是1-4相同，當O2從分子篩柱流出后進入閥3后，進入后面的分析篩，閥3切換，H2、02直接進入后面的分子篩繼續分離，通過閥4進入檢測器檢測。此時閥3處于放空狀態，放掉大部分的氮氣，當CH4即將流出前面分子篩，閥3再次切換， CH4與氮氣的混合氣體進入后面的分子篩繼續分離，通過閥4進入檢測器進行檢測。當CH4*流出前面分子篩后，閥3再次切割為放空狀態，繼續放掉氮氣。

3.  當CO即將流出分子篩，閥3再次切換，CO通過閥3進入后面的分子篩繼續分離，進入檢測器檢測。當CO從前面分子篩流出后，閥3再次切換，處于放空狀態。

4.  閥2是用來分析CO2的，當樣品從定量環中帶入預柱中，一開始閥2是處于放空狀態，待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO流出排空后，閥2切換，把CO2反吹進檢測器進行分析。

分析譜圖

標準樣品譜圖

高純氫氣樣品譜圖

高純氮氣

高純Ar