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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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公司信息

人:
葉盛
話:
4008800298
機:
13681069478
真:
址:
洪山區珞獅南路147號未來城A棟
編:
化:
www.mycro.net.cn
址:
www.mycro.cn
鋪:
http://www.weixunsd.com/st119375/
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[供應]PPC973-PPC等離子去膠機
PPC973-PPC等離子去膠機
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2024-09-18 09:27:39
有效期:
2024年9月18日--2025年3月18日
已獲點擊:
332
【簡單介紹】PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統融合了下面的特點,并在眾多的應用領域中得到肯定。
產品特色
負載循環控制,模擬功率控制
處理機存儲
水冷底座
減少污水排放
安全保護設計
操作簡便 維護方便
【詳細說明】

PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統融合了下面的特點,并在眾多的應用領域中得到肯定。

產品特色

負載循環控制,模擬功率控制

處理機存儲

水冷底座

減少污水排放

安全保護設計

操作簡便 維護方便

應用范圍:

混合電路板制造中基片的清洗

打線工藝前清洗電子部件,提高其可靠性

錫焊或焊接工藝前,關鍵性鍍金部件的清洗

清洗半導體元器件

光刻膠去膠

上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準備

鍍膜前對光學器件清洗

清洗石英、藍寶石及其它材料

適用工藝:

打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊;

去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環氧殘留物;

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學部件、清洗半導體表面、清洗鍍銀部件;

塑膠密封劑去除--失效模式分析

型號

PPC862

PPC973

反應艙尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷卻面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反應艙

方形艙體

方形艙體

反應艙材質

派熱克斯玻璃&鋁材

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水冷式

水冷裝置

水冷裝置

負載比

10%至連續性

10%至連續性

標準流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

頻率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100750之間調節

100750之間調節

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg

真空泵系統

抽氣速率3.8cfm/

抽氣速率3.8cfm/



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